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Subnano3D干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)等技術的基礎上，以其納米級測量準確度和重復性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術、材料、太陽能電池技術等領域。
Subnano3D干涉輪廓儀產(chǎn)品優(yōu)點：
1、美國硅谷研發(fā)的核心技術和系統(tǒng)軟件。
2、關鍵硬件采用美國、德國、日本等。
3、PI納米移動平臺及控制系統(tǒng)。
4、Nikon干涉物鏡。
5、NI信號控制板和Labview64 控制軟件。
6、TMC光學隔振臺。
7、測量準確度重復性達到不錯的水平(中國計量科學研究院證書)。
Subnano3D干涉輪廓儀產(chǎn)品優(yōu)點：
1、美國硅谷研發(fā)的核心技術和系統(tǒng)軟件。
2、關鍵硬件采用美國、德國、日本等。
3、PI納米移動平臺及控制系統(tǒng)。
4、Nikon干涉物鏡。
5、NI信號控制板和Labview64 控制軟件。
6、TMC光學隔振臺。
7、測量準確度重復性達到不錯的水平(中國計量科學研究院證書)。
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