本篇介紹了使用 I101 鈣鈦礦前體油墨的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池制備過(guò)程, 該油墨用于底部ITO / PEDOT:PSS陽(yáng)極和頂部PC 70 BM / Ca / Al陰極。
ITO / PEDOT:PSS / CH 3 NH 3 PbI 3-x Cl x / PC 70 BM / Ca / Al
詳細(xì)步驟如下:
1.基板清潔:清潔預(yù)圖案化的ITO基板。將基板在1%的高溫(70°C)中超聲處理5分鐘 。在沸騰的去離子(DI)水中漂洗底物兩次(轉(zhuǎn)儲(chǔ)沖洗),然后在IPA中進(jìn)一步超聲處理5分鐘,后在沸騰的DI水中漂洗兩次。使用壓縮氮?dú)飧稍锘摹?/span>
2. PEDOT:PSS陽(yáng)極制備:PEDOT:PSS的所有制備和旋涂應(yīng)在空氣中層流罩中進(jìn)行。首先,使用0.45μmPES 過(guò)濾器過(guò)濾AI 4083 PEDOT:PSS。然后使用移液器將35μl過(guò)濾后的PEDOT:PSS溶液分配到ITO基板上(動(dòng)態(tài)分配),以6000 rpm旋轉(zhuǎn),總旋轉(zhuǎn)時(shí)間設(shè)置為40s。再將基材放在120°C的加熱板上。此過(guò)程將創(chuàng)建厚度在40~50 nm之間的PEDOT:PSS膜。涂完所有ITO基材后,必須將加熱板溫度降至90°C,并將基材保持在該溫度下,直到用鈣鈦礦前體涂布。注意,在此階段不擦拭陰極帶,以使鈣鈦礦在下面的步驟3中*,平滑地覆蓋基材。
3.鈣鈦礦的沉積: 開(kāi)始此步驟之前,濕度必須不高于約40%。I101鈣鈦礦前體油墨MAI:PbCl 2 (3:1)在使用前應(yīng)先在70°C加熱30至60分鐘,然后在整個(gè)沉積過(guò)程中保持在該溫度下。要涂覆鈣鈦礦前體,將ITO / PEDOT:PSS基材從熱板上快速轉(zhuǎn)移到勻膠旋涂?jī)x上(再次在空氣中),然后以3000 rpm的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)?,F(xiàn)在,立即將30μlI101油墨分配到熱的基底上,該基底應(yīng)旋轉(zhuǎn)30秒鐘。這將產(chǎn)生亮黃色的薄膜。將此基板放回90°C的熱板上(空氣中)。
在所有基材上都涂覆鈣鈦礦前體(薄膜仍應(yīng)呈現(xiàn)亮黃色)后,請(qǐng)使用干燥的超精密無(wú)塵棉簽擦拭陰極條。從表面去除鈣鈦礦前體?,F(xiàn)在,將基板放回?zé)岚迳希偻嘶?0分鐘,將鈣鈦礦前體*轉(zhuǎn)化為CH 3 NH 3 PbI 3-x Cl x 鈣鈦礦。處理后,所有薄膜都應(yīng)該從黃色變成灰棕色。在顯微鏡下,薄膜應(yīng)顯示為致密的多晶層。
4. PC 70 BM的沉積: 首先,準(zhǔn)備50 mg / ml 的PC 70 BM在氯苯中的溶液 。應(yīng)將其置于充氮手套箱內(nèi)70°C的加熱板上,并在使用前攪拌3至5個(gè)小時(shí)。為了縮短加熱時(shí)間,建議使用0.45 µm PTFE(疏水性)過(guò)濾器過(guò)濾溶液。準(zhǔn)備好后,將鈣鈦礦涂層基材轉(zhuǎn)移到手套箱中。在勻膠旋涂?jī)x上以1000 rpm旋轉(zhuǎn)的同時(shí),使用移液器將20μlPC 70 BM溶液分配到薄膜表面上??偣残?0秒,以形成厚度為120 nm 的PC 70 BM膜。
WS-650-23B勻膠旋涂?jī)x
5.陰極沉積: 現(xiàn)在可以通過(guò)陰極沉積完成器件。在<10 -6 mbar 的基本壓力下,通過(guò)像素化陰極掩模將鈣/鋁陰極復(fù)合材料(分別為5和100 nm)熱蒸發(fā)到膜表面上,以定義器件的有效區(qū)域。后,使用玻璃蓋玻片和環(huán)氧樹(shù)脂封裝您的器件,然后將其暴露在紫外線(350 nm)中30分鐘以固化環(huán)氧樹(shù)脂?,F(xiàn)在,您可以使用IV曲線測(cè)量系統(tǒng)和測(cè)量孔徑掩模對(duì)器件進(jìn)行測(cè)試和評(píng)估了 。
器件性能
以下圖1中顯示了工藝配方制備的超好像素的器件特性。此處,在反向偏置掃描之后,在標(biāo)準(zhǔn)AM1.5太陽(yáng)模擬器下對(duì)設(shè)備進(jìn)行了測(cè)試。此處,性能超好的器件具有11.7%的轉(zhuǎn)換效率(PCE),Voc(0.96 V),F(xiàn)F(73.19%)和Jsc(-16.71 mA / cm 2)。
圖1:基于I101鈣鈦礦油墨的PV光伏器件在AM1.5太陽(yáng)模擬器照射下的曲線。在反向掃描中記錄器件特性。
圖2:典型過(guò)程運(yùn)行中記錄的器件效率分布。數(shù)據(jù)取自5個(gè)包含30個(gè)像素的基板。從該分析中去除了由于它們靠近器件襯底的邊緣而導(dǎo)致的具有低操作效率的10個(gè)像素。
References
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