清潔度檢測設(shè)備選擇原則
清潔度設(shè)備選取一般分為兩個方面要求:
1、清洗設(shè)備
根據(jù)自己廠里所需清潔度檢測工件尺寸大?。ㄩL*寬*高)來選取合適的清洗方式以及設(shè)備。
清洗方式一般常用的有三種:壓力清洗、超聲波清洗、灌流清洗
壓力清洗以及超聲波清洗目前市場上有簡易式的,也有集成式的。兩種設(shè)備在功能上也有一定的差距??蛻粜杞Y(jié)合自己廠里生產(chǎn)工藝,加工精度要求選取合適的清洗設(shè)備。
2、顆粒物大小重量及數(shù)量分析要求
①客戶要求如果有顆粒物重量分析,那么客戶需要配置一臺萬分之一的天平(也有的客戶選擇十萬分之一)
②顆粒物數(shù)量大小分析
1)集成高景深體式顯微鏡,通常用于檢測25um以上的顆粒
2)集成奧林巴斯金相顯微鏡,可檢測5um以上的顆粒,客戶可以選配其他規(guī)格倍數(shù)的物鏡兼具可做金相材料分析和孔隙率分析。
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