0.1ppt(pg/mL)水平的超痕量檢測(cè)依舊是ICP-MS面臨的難題,為了打破這一局面而開(kāi)發(fā)出了采用濃縮預(yù)處理的去離子水分析法。去離子水濃縮分析法是在整個(gè)預(yù)處理過(guò)程中,在控制外界污染的前提下,使去離子水中所含雜質(zhì)的濃度達(dá)到高出ICP-MS檢測(cè)能力的過(guò)程,控制外界污染非常艱難,而且費(fèi)用龐大、耗時(shí)長(zhǎng),除了一些潔凈度非常高的實(shí)驗(yàn)室, -般操作起來(lái)會(huì)受到限制。
本研究的目的是檢驗(yàn)是否可用ICP-MS直接分析定量去離子水,來(lái)管理半導(dǎo)體行業(yè)實(shí)驗(yàn)室的去離子水質(zhì)量。
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