內(nèi)蒙古烏海觸摸屏箱式高溫爐
1400℃,1500℃和1600℃硅碳棒內(nèi)蒙古烏海觸摸屏箱式高溫爐
· 底載式馬弗爐 BLF
· 1700℃硅鉬棒高溫馬弗爐 HTF
· 1700℃和1800℃硅鉬棒高溫馬弗爐RHF、HTF
· 2050℃超高溫馬弗爐 Zircothal
· 管式馬弗爐
· 旋轉(zhuǎn)反應(yīng)爐 HTR
內(nèi)蒙古烏海觸摸屏箱式高溫爐
馬弗爐以輻射熱加熱樣品,存在樣品表面升溫快、內(nèi)部升溫慢之弊。對(duì)某些樣品,加熱過程中的這種內(nèi)外溫差可能導(dǎo)致加工處理質(zhì)量(如晶型)不均一,甚至樣品破裂。在快速升溫時(shí)尤其如此(圖1)。
微波爐可同時(shí)對(duì)樣品外部和內(nèi)部加熱,但樣品外部由于散熱,其溫度將低于內(nèi)部。這種溫差同樣會(huì)導(dǎo)致與上述馬弗爐類似的問題。
內(nèi)蒙古烏海觸摸屏箱式高溫爐令樣品內(nèi)外部同步升溫,整個(gè)樣品在加熱過程中溫度均勻,從而可改進(jìn)熱處理質(zhì)量,防止樣品因溫差引起破裂,且可以更快的速度升溫。