具有可選光學(xué)器件的高精度測角儀

該 XRD 系統(tǒng)適用于所有薄膜 XRD 應(yīng)用，并具有 XY 可移動平臺，可繪制最大 300 mm 的晶圓。

我們的系統(tǒng)可確保您的樣品保持完好無損，使您能夠毫無問題地進行額外的實驗和分析。為您的所有研究和開發(fā)需求提供最準(zhǔn)確、可靠的結(jié)果。

適用于近晶圓廠應(yīng)用的 XRD 系統(tǒng)映射工具

它可用于改進材料分析、加強質(zhì)量控制和優(yōu)化制造工藝。

薄膜

• 精確的厚度和成分

• 水晶信息

• 應(yīng)力應(yīng)變分析

• 無損性能評價

• 多層分析

• 先進材料開發(fā)

XRR 厚度專用系統(tǒng)

確定薄膜、涂層和多層結(jié)構(gòu)的厚度、密度和界面粗糙度。

GaAs(004)、立方GaN(002)、六方GaN(0004)特性評估

精確分析晶體取向并控制材料生長和加工，以實現(xiàn)電子和光電器件所需的性能。