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品 牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地深圳市
更新時(shí)間:2024-10-22 15:29:54瀏覽次數(shù):69次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)v 單價(jià)離子加速能量≥200keV,并增加減速系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)單價(jià)離子在5keV~200keV的能量范圍
v 可用于2、3、4、6、8英寸晶圓以及不規(guī)則碎片
v 可注入B、P、As、Al、S、H、Mg、Si離子
v 注入劑量精準(zhǔn)度≤1.5%
v 離子注入劑量范圍:1×1011 at/cm2~1×1016 at/cm2
v 離子源部分:離子源、離子源氣體系統(tǒng)和離子源引出系統(tǒng)
v 離子源系統(tǒng)搭載5套從固體蒸發(fā)源產(chǎn)生離子的Vaporizer,溫度達(dá)700℃,實(shí)現(xiàn)固態(tài)源的離子注入
v 離子注入傾斜角度在0°和7°
v 室溫臺(tái):0°和7°;高溫臺(tái):0°
v 束流調(diào)整系統(tǒng)主要包括:質(zhì)量分析器、束流匯聚系統(tǒng)、加速系統(tǒng)、掃描系統(tǒng)、束流檢測(cè)和高壓絕緣變壓器
v 真空系統(tǒng)主要包括:Ion Source真空系統(tǒng)、Beam Line真空系統(tǒng)、End Station真空系統(tǒng)、真空系統(tǒng)中的真空管件和閥門以及真空檢測(cè)單元
v 真空度:
Ion Source真空度:≤7×10-4Pa
Beam Line真空度:≤7×10-5Pa
End Station真空度:≤7×10-5Pa
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