ULVAC ei-5z系列高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是一款可同時(shí)安裝電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā)源的多功能蒸發(fā)臺(tái)，可用于各種金屬、合金、非金屬蒸發(fā)鍍膜，可做垂直入射蒸發(fā)工藝，可做穿墻式設(shè)計(jì)，采用全自動(dòng)控制，穩(wěn)定，高效。

高真空環(huán)境：提供高純度膜層，適用于高精度研究和少量生產(chǎn)。
多種材料蒸發(fā)：支持金屬、ITO、二氧化硅等多種材料的蒸發(fā)，應(yīng)用廣泛。

主要技術(shù)參數(shù)：

·適用于2-8inch各種形狀的Si、GaAs、玻璃陶瓷等基板；

·采用低空泵，可在20min內(nèi)達(dá)到3.0*10-4Pa，極限壓強(qiáng)可達(dá)3.0*10-5Pa或更低；

·采用電子束或熱蒸發(fā)源，擋板共用；

·膜厚均勻性好于±5%；