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Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào):EI系列

品       牌:ABNER/艾博納

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:淮安市

更新時(shí)間:2024-10-29 09:33:22瀏覽次數(shù):210次

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供貨周期 一個(gè)月以上 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,能源,電子,冶金,電氣
主要用途 用于在基板上形成金屬膜或氧化物膜
Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備 EI 系列是一種專(zhuān)門(mén)用于在基板上形成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備。

Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備 EI 系列是一種專(zhuān)門(mén)用于在基板上形成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備。該設(shè)備具有以下顯著特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì):

高真空環(huán)境:EI 系列設(shè)備能夠提供高真空環(huán)境,確保蒸發(fā)過(guò)程中的膜層質(zhì)量。高真空條件下,雜質(zhì)含量減少,膜層純凈度更高,適用于高精度的研究開(kāi)發(fā)以及少量生產(chǎn)。

多種材料蒸發(fā):該設(shè)備可以蒸發(fā)多種材料,包括金屬、ITO(銦錫氧化物)以及二氧化硅等。這使得EI系列設(shè)備在不同應(yīng)用領(lǐng)域中具有廣泛的適用性,從電子元件到光學(xué)元件的制造,都可以輕松應(yīng)對(duì)。

集中控制:通過(guò)操作面板進(jìn)行集中控制,實(shí)現(xiàn)了抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動(dòng)化操作。操作界面友好,易于設(shè)置和調(diào)整工藝參數(shù),提高了工作效率和操作的便捷性。

適用于研究開(kāi)發(fā)及少量生產(chǎn):EI 系列設(shè)備特別適合于實(shí)驗(yàn)室研究開(kāi)發(fā)和少量生產(chǎn)需求。其靈活的工藝參數(shù)調(diào)整能力和高質(zhì)量的成膜效果,使其在新材料研究和工藝開(kāi)發(fā)中成為理想選擇。

蒸發(fā)材料
金屬:EI 系列設(shè)備能夠蒸發(fā)多種金屬,如鋁、銅、金、銀等,用于制造高導(dǎo)電性和高反射率的金屬膜。這些金屬膜廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)和裝飾性領(lǐng)域。

ITO(Indium Tin Oxide):ITO 膜具有優(yōu)異的導(dǎo)電性和透明性,廣泛用于制造透明導(dǎo)電膜,如觸摸屏、液晶顯示器和太陽(yáng)能電池。EI 系列設(shè)備能夠精確控制ITO 膜的厚度和均勻性,確保其優(yōu)良的電學(xué)和光學(xué)性能。

二氧化硅(SiO2):二氧化硅膜常用于制造絕緣層和光學(xué)鍍膜。EI 系列設(shè)備在蒸發(fā)SiO2 方面具有高穩(wěn)定性,能夠形成均勻、致密的膜層,適用于半導(dǎo)體和光學(xué)元件的制造。

應(yīng)用場(chǎng)景
電子行業(yè):在電子元件制造中,EI 系列設(shè)備可以用于制造各種金屬連接膜和透明導(dǎo)電膜,提升元件性能和可靠性。
光學(xué)行業(yè):在光學(xué)元件制造中,該設(shè)備可以蒸發(fā)高質(zhì)量的二氧化硅膜和金屬反射膜,增強(qiáng)光學(xué)性能和耐用性。
研究開(kāi)發(fā):在新材料和新工藝的研究開(kāi)發(fā)中,EI 系列設(shè)備提供了高度的靈活性和精確控制,是科研人員的理想工具。

Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備 EI 系列憑借其高性能、多功能性和易操作性,成為科研和生產(chǎn)中的重要設(shè)備。無(wú)論是新材料研究還是少量生產(chǎn)需求,該設(shè)備都能提供可靠的解決方案。



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型號(hào):EI系列 參考價(jià): ¥面議
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