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目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>薄膜材料生長成套設備>> 開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV

開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV
  • 開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV
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具體成交價以合同協(xié)議為準
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更新時間:2024-03-12 17:16:38瀏覽次數(shù):171評價

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產(chǎn)品簡介:開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統(tǒng)組成,可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體,真空度可達10-2torr


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產(chǎn)品簡介: 開啟式單溫區(qū)低真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-F3LV 是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道 浮子混氣系統(tǒng)組成, 可為 CVD 或擴散實驗提供 1-3 種的混合氣體, 真空度可達 10-2torr。


產(chǎn)品型號

開啟式單溫區(qū)低真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-F3LV

安裝條件

本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:不需要


2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地


3、氣:設備腔室內(nèi)需充注氣體,需自備氣瓶氣源


4、工作臺: 尺寸 600mm×600mm×700mm ,承重 150kg 以上


5、通風裝置:需要

主要特點

1、雙層殼體,配有循環(huán)風冷系統(tǒng),殼體溫度<60℃。


2 、內(nèi)爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高加熱效率,同時延長使用壽命。


3 、采用 PID 控制器 ,可以設置 30 段升降溫程序。


4、設有超溫及斷偶報警功能。


5 、已通過 CE 認證。

技術(shù)參數(shù)

1 、電源: AC 220V    50Hz/60Hz    2.5KW


2、石英管: 外徑 ?80mm ,內(nèi)徑 ?75mm ,長 1000mm





3、加熱元件: 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲


4、加熱區(qū)域: 440mm


5、恒溫區(qū)域: 150mm


6 、工作溫度:  1200 ,連續(xù)工作 1100


7、升降溫速率: 20/min


8、控溫精度:± 1


9、真空度: 5.5×10-3torr (機械泵), 10-4torr  (分子泵)

10、泄漏率: <5mtorr/min

11、浮子流量計: 3 個; 10ml/min-100ml/min ,16ml/min-160ml/min ,25ml/min-250ml/min


12、壓力表: 4 

產(chǎn)品規(guī)格

尺寸: 管式爐 550mm×380mm×520mm ,混氣系統(tǒng) 600mm×600mm×597mm;重量: 60kg


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