目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>薄膜材料生長成套設備>> 開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV
產(chǎn)品簡介: 開啟式單溫區(qū)低真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-F3LV 是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道 浮子混氣系統(tǒng)組成, 可為 CVD 或擴散實驗提供 1-3 種的混合氣體, 真空度可達 10-2torr。
產(chǎn)品型號 | 開啟式單溫區(qū)低真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-F3LV |
安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水:不需要 2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設備腔室內(nèi)需充注氣體,需自備氣瓶氣源 4、工作臺: 尺寸 600mm×600mm×700mm ,承重 150kg 以上 5、通風裝置:需要 |
主要特點 | 1、雙層殼體,配有循環(huán)風冷系統(tǒng),殼體溫度<60℃。 2 、內(nèi)爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高加熱效率,同時延長使用壽命。 3 、采用 PID 控制器 ,可以設置 30 段升降溫程序。 4、設有超溫及斷偶報警功能。 |
5 、已通過 CE 認證。 | |
技術(shù)參數(shù) | 1 、電源: AC 220V 50Hz/60Hz 2.5KW 2、石英管: 外徑 ?80mm ,內(nèi)徑 ?75mm ,長 1000mm |
3、加熱元件: 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲 4、加熱區(qū)域: 440mm | |
5、恒溫區(qū)域: 150mm 6 、工作溫度: 1200℃ ,連續(xù)工作 1100℃ 7、升降溫速率: 20℃/min 8、控溫精度:± 1℃ 9、真空度: 5.5×10-3torr (機械泵), 10-4torr (分子泵) 10、泄漏率: <5mtorr/min 11、浮子流量計: 3 個; 10ml/min-100ml/min ,16ml/min-160ml/min ,25ml/min-250ml/min 12、壓力表: 4 個 | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸: 管式爐 550mm×380mm×520mm ,混氣系統(tǒng) 600mm×600mm×597mm;重量: 60kg |