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河南測儀精密科技有限公司

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HANNA ?HI84500 游離、總二氧化硫滴定儀

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品牌HANNA/意大利哈納

廠商性質(zhì)代理商

所在地鄭州市

更新時間:2024-09-19 17:36:08瀏覽次數(shù):214次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
價格區(qū)間 5千-5萬 儀器種類 通用電位滴定儀
應(yīng)用范圍 通用型 應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
HANNA ?HI84500 全自動游離、總二氧化硫滴定儀是為測量酒中游離、總二氧化硫而設(shè)計的方便、快捷的迷你自動滴定儀,它預(yù)設(shè)分析方法和強(qiáng)大的算法來檢測滴定終點,配備動態(tài)加藥系統(tǒng)控制加藥過程。滴定開始時快速加藥節(jié)省了滴定時間,滴定接近終點時緩慢加藥,不僅可使滴定劑和分析物反應(yīng),而且還可以防止過量滴定,以及更準(zhǔn)確檢測滴定終點。
HANNA HI84500 全自動游離、總二氧化硫滴定儀(葡萄酒行業(yè))

HI84500是為測量酒中游離、總二氧化硫而設(shè)計的方便、快捷的迷你自動滴定儀,它預(yù)設(shè)分析方法和強(qiáng)大的算法來檢測滴定終點。采用活塞式加藥系統(tǒng),能夠保證滴定劑用量,并用HANNA標(biāo)準(zhǔn)對泵進(jìn)行校準(zhǔn),確保測量的準(zhǔn)確率。HI84500配備低量程測量,還可用做mV計直接測量ORP。



活塞式動態(tài)加藥泵

配備動態(tài)加藥系統(tǒng)控制加藥過程。滴定開始時快速加藥節(jié)省了滴定時間,滴定接近終點時緩慢加藥,不僅可使滴定劑和分析物反應(yīng),而且還可以防止過量滴定,以及更準(zhǔn)確檢測滴定終點。


攪拌速率自動控制

不論溶液粘度大小,自動將速率控制在700rpm


配備HI3148B可填充玻璃材質(zhì)氧化還原ORP電極

HI3148B采用CPSTM預(yù)防堵塞系統(tǒng),專門用于酒類樣品測量。


圖形模式/可輸出數(shù)據(jù)

顯示所有滴定數(shù)據(jù),并能將數(shù)據(jù)通過USB接口存儲,輸出到USB盤或電腦上。


數(shù)據(jù)存儲

存儲400樣品(200個滴定,200個pH/mV)


用戶友好界面

配備大按鈕的直觀設(shè)計,易于操控的屏幕,專用HELP按鍵,隨屏顯示幫助信息。


mV測定功能

HI84500除了能做滴定儀外,還可以用作mV測定儀。


GLP功能

符合良好實驗室規(guī)范,詳細(xì)記錄操作時間日期,樣品編號和電極校準(zhǔn)等信息。


CAL-CheckTM

電極核查功能,校準(zhǔn)過程中及時提醒用戶發(fā)現(xiàn)的問題,如緩沖液污染,pH電極臟或破損。


游離、總二氧化硫的重要性

酒生產(chǎn)商在酒里面加入少量的二氧化硫來阻止細(xì)菌以及酵母增長,同時作為一個氧化劑來阻止褐變。當(dāng)二氧化硫加入酒中,部分二氧化硫會立即發(fā)生結(jié)合,其他部分二氧化硫沒有結(jié)合,未結(jié)合的二氧化硫稱為游離二氧化硫,游離二氧化硫起到保護(hù)酒的作用。結(jié)合和未結(jié)合的二氧化硫統(tǒng)稱總二氧化硫。加入二氧化硫量和游離二氧化硫量的關(guān)系非常復(fù)雜,一般用總二氧化硫量來衡量。不同的酒之間,游離二氧化硫與結(jié)合二氧化硫的關(guān)系相差大,游離二氧化硫的含量由加入量、現(xiàn)存量、結(jié)合量三者決定。游離二氧化硫有兩種形式存在,一種是酸式鹽(HSO3+),這是主要存在形式,但在酒中不起作用;一種是分子SO2形式存在,起到保護(hù)酒的作用。二氧化硫分子存在量是受到酒中的游離二氧化硫和酒的pH影響,通常為阻止細(xì)菌生長和氧化作用,酒中許喲啊有0.8ppm分子態(tài)二氧化硫,為達(dá)到這個值,pH3.2時,游離二氧化硫需要達(dá)到22ppm,pH3.5時,游離二氧化硫需要44ppm。分子態(tài)二氧化硫含量大于2.0ppm時,人可以感覺到二氧化硫,因此在保護(hù)酒時,加入二氧化硫不應(yīng)該高于此值。在甜酒和多數(shù)有名的貴葡萄酒中,會加入更多的二氧化硫,HI84500可用來檢測所有酒的游離二氧化硫和總二氧化硫,包括用傳統(tǒng)方法不能檢測的紅酒。


表中顯示的SO2為0.8ppm時,不同pH下對應(yīng)的游離二氧化硫量(ppm)


pH3.0
3.13.23.33.43.53.63.73.83.9
游離SO2141822283544556987109





技術(shù)參數(shù):


滴定低量程二氧化硫-LR高量程二氧化硫-HR
測量范圍1.0 - 40.0 mg/L(ppm)SO230 - 400 mg/L(ppm)SO2
解析度0.1 mg/L(ppm)1 mg/L(ppm)
精度@250C±0.5 mg/L 或讀數(shù)±3%,取最大值±1 mg/L 或讀數(shù)±3%,取最大值
滴定方法滴定法分析法,等電位氧化還原原理
數(shù)據(jù)存儲測量數(shù)據(jù):200個
其他指標(biāo)泵轉(zhuǎn)速:10mL/分鐘;攪拌速度:700 rpm
氧化還原
測量范圍-2000 mV - 2000 mV
解析度0.1 mV
精度@250C±1 mV
數(shù)據(jù)存儲mV存儲數(shù)據(jù):200個
其他指標(biāo)
電源模式AC230 V/12VDC 電源適配器
使用環(huán)境
0 - 500C ; 最大95% RH無冷凝
尺寸/重量主機(jī)尺寸:235 x 200 x 150 mm 主機(jī)重量:1.9 kg


標(biāo)準(zhǔn)配置:

主機(jī),含HI3148B氧化還原電極,二氧化硫滴定試劑套裝,其他附屬配件,使用說明書。





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