Nanoplus分布式反饋激光器760 nm - 830 nm

產(chǎn)品型號：760 nm - 830 nm

產(chǎn)品介紹

nanoplus使用一種技術進行DFB激光制造。我們沿著脊波導應用了橫向金屬光柵，它獨立于材料系統(tǒng)，并提供具有更好光學性能的單模發(fā)射。

nanoplus分布式反饋激光器（DFB）是專門為使用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜（TDLAS）進行高精度氣體檢測而設計的。任何定制波長都是可能的：您告訴我們您需要什么，我們就會提供。憑借DFB技術，我們設計了760 nm至14μm之間的任何波長。頻譜純度的特點是側(cè)模抑制比（SMSR）大于35dB，使您的系統(tǒng)在抗交叉干擾方面具有較低的信噪比。低于3MHz的窄線寬保證了吸收線特征的超準確掃描。幾mW的高輸出功率可產(chǎn)生更強的信號，并提高測量精度。

性能特點

l 單模

l 連續(xù)波

l 室溫

l 無模式跳變調(diào)諧

可選功能與配件

帶TEC和NTC的TO5，黑色帽子，AR涂層窗口

TO56，不帶TEC或NTC，密封，窗口

c-mount，不含TEC或NTC

蝶形封裝，帶TEC和NTC、SM光纖、FC/APC連接器

不帶TEC、帶NTC的載片

技術參數(shù)

產(chǎn)地：德國

工作波長（Too）：0.1 nm

光學輸出功率（在λ處）：5 mW

工作電流：30 mA

工作電壓：3 V

閾值電流：typ.15 mA

側(cè)模抑制比：>35 dB

電流調(diào)諧系數(shù)：typ.0.02 nm / mA

溫度調(diào)節(jié)系數(shù)：typ.0.05 nm / K

工作芯片溫度：+20...+50℃

外殼運行溫度：-20...+50℃

儲存溫度：-40...+80℃