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當前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司>>元器件高低溫測試機>>元器件冷水機>> LTS-202半導體循環(huán)制冷機 集成電路水冷散熱模組
產(chǎn)品型號LTS-202
品 牌冠亞制冷
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地無錫市
更新時間:2024-01-11 11:03:11瀏覽次數(shù):600次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 |
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冷卻方式 | 水冷式 | 儀器種類 | 一體式 |
應用領域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車 |
主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。
半導體專溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤
數(shù)據(jù)中心液冷解決方案
型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
溫度范圍 | 5℃~40℃ | ||||||
控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
流量控制 | 10~25L/min 5bar max | 15~45L/min 6bar max | 25~75L/min 6bar max | ||||
制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
內(nèi)循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
制冷劑 | R410A | ||||||
載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 (DI溫度需要控制10℃以上) | ||||||
進出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
溫度擴展 | 通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃ |
半導體循環(huán)制冷機 集成電路水冷散熱模組
半導體循環(huán)制冷機 集成電路水冷散熱模組
在芯片制造過程中,淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller作為一種關鍵設備,發(fā)揮著一定作用。本文將對芯片制造工藝中的淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller進行詳細介紹。
一、淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller的作用
淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller在芯片制造工藝中主要起到冷卻作用。在芯片制造過程中,各種設備產(chǎn)生的熱量較高,如光刻機、刻蝕機等,如果熱量控制不當,將會影響芯片的制造質(zhì)量和效率。淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller通過循環(huán)冷卻水將設備產(chǎn)生的熱量帶走,確保設備在穩(wěn)定的溫度環(huán)境下運行,從而保證芯片制造的穩(wěn)定性和精度。
二、淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller選購的流程
1、設備選型
根據(jù)芯片制造工藝的具體需求,選擇適合的淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller設備。需要考慮的因素包括設備的冷卻能力、穩(wěn)定性、可靠性、易維護性等。
2、設備安裝
淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller設備需要安裝在合適的位置,以便與芯片制造工藝中的其他設備進行連接和配合。安裝過程中需要注意設備的安裝精度和穩(wěn)定性,確保設備能夠正常運行。
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