HB2DGHL雙模塊多用途干式金屬浴操作特點(diǎn)：
微處理控制器：帶有外置RTD探頭的PID溫度控制裝置，使溫度穩(wěn)定性的變化小于± 0.1°C，使溫度均勻性變化也小于± 0.1°C。使樣品快速和升溫。以± 0.1°C增量調(diào)節(jié)溫度。LED顯示屏：通過(guò)觸摸平板進(jìn)行控制，并帶有易于讀取的獨(dú)立溫度和時(shí)間LED顯示屏。始終提供可重復(fù)和的結(jié)果，在實(shí)驗(yàn)室工作臺(tái)即可輕松查看。顯示設(shè)定值與實(shí)際溫度。定時(shí)器將顯示已用時(shí)間，也可將其編程為用戶(hù)定義的限值，從而在時(shí)間達(dá)到零時(shí)自動(dòng)關(guān)閉裝置。顯示屏將顯示上一次使用的設(shè)置，即使斷電后也可顯示。

溫度校準(zhǔn)模式：允許用戶(hù)根據(jù)外部溫度設(shè)備校準(zhǔn)裝置。

工作條件：
裝置可在18-33°C，相對(duì)濕度為20%-80%的非冷凝條件下
運(yùn)行。

HB2DGHL雙模塊多用途干式金屬浴技術(shù)參數(shù)：

應(yīng)用領(lǐng)域：
等溫培養(yǎng)、酶反應(yīng)、免疫分析、核酸變性和諸多其他實(shí)驗(yàn)室流程。