美國(guó)PIE等離子清洗機(jī) 基本型等離子 等離子體表面處理 擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)

一、美國(guó)PIE等離子清洗機(jī)應(yīng)用

等離子清洗機(jī)清除樣品表面的污染物，去除光阻膠：產(chǎn)生表面活性功能組；

清洗提高材料表面親水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，PDMS；

表面活化：渲染表面的親水性或疏水性，鍵合和沉積前的表面預(yù)處理

表面聚合：沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面；

表面改性：在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán)，高分子材料表面修飾；

去除表面殘留微生物，的消毒和

二、美國(guó)PIE等離子清洗機(jī)的特點(diǎn)
1、13.56MHz高頻射頻發(fā)生器；

2、7英寸觸摸屏控制界面，全自動(dòng)操作；

3、標(biāo)配75W版本，可選150W版本；

4、系統(tǒng)具有雙等離子源。浸入式等離子源用于主動(dòng)表面處理、光刻膠蝕刻。遠(yuǎn)程式等離子源用于溫和的污染清除以及脆弱易損樣品的表面活化。

三、美國(guó)PIE等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù)

1、控制系統(tǒng)

1）操作界面：7英寸電阻觸摸屏操作界面，支持多種工作方式。

2）程序控制：可編程，總共有20個(gè)程序，每個(gè)程序有3個(gè)清潔步驟。

2、反應(yīng)腔體

1）腔體材質(zhì)：圓柱形石英玻璃艙；

2）腔體容積：2.6L；

3）腔體尺寸：內(nèi)徑：110毫米，深度：280毫米。

3、射頻電源

1）射頻頻率：13.56MHz；

2）射頻功率：標(biāo)配0~75W；從0瓦到75瓦之間以1瓦間距連續(xù)可調(diào)，可選0~150W

4、等離子源

1）等離子強(qiáng)度探測(cè)器實(shí)時(shí)測(cè)量等離子源強(qiáng)度。

2）外置電極設(shè)計(jì)，高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。

5、氣體控制

1）氣路控制：標(biāo)配一路MFC；可選配三路MFC；

2）質(zhì)量流量計(jì)可以在0~100sccm之間準(zhǔn)確控制氣體流量；

3）一路(Venting and purging)氣體入口用來(lái)快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體。