離子濺射儀為一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。
什么是濺射
用帶有幾百電子伏特以上動能的粒子或粒子束轟擊固體表面，使靠近固體表面的原子獲得入射粒子所帶能量的一部分而脫離固體進入到真空中，這種現(xiàn)象稱為濺射。
濺射一般是在輝光放電過程中產(chǎn)生的，輝光放電是濺射技術(shù)的基礎(chǔ)。
輝光放電：真空度為10-1~10-2Torr，兩電極間加高壓，產(chǎn)生輝光放電。電流電壓之間不是線性關(guān)系，不服從歐姆定律。
什么是濺射儀
離子濺射儀，是采用離子濺射的方式進行鍍膜的儀器。
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