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詳細(xì)介紹
海鑫瑞粒徑儀參數(shù)不準(zhǔn)確維修，激光粒度分析儀是一種使用廣泛的粒徑測(cè)量設(shè)備。其檢測(cè)原理是基于光的散射現(xiàn)象:當(dāng)光線遇到粒子在旅行的過程中,它的一部分將偏離原來的傳播方向。這種現(xiàn)象稱為光散射或衍射。粒徑越小,散射角越大;粒徑越大,散射角越小。激光粒度分析儀測(cè)量顆粒大小根據(jù)光的散射現(xiàn)象。很多行業(yè)都離不開它，即使在制造上有多好，也無法避免使用后的常規(guī)失敗時(shí)間。
因此控制產(chǎn)品粒度對(duì)于提高各方面的性質(zhì)有重要的意義，粒度測(cè)試就變得尤為重要
海鑫瑞粒徑儀故障診斷技巧分享：
通過觀察“0環(huán)"的穩(wěn)定性來判斷光能的穩(wěn)定性?！?環(huán)"在一分鐘內(nèi)的波動(dòng)范圍不應(yīng)超過其5%。該指標(biāo)將在很大程度上影響試驗(yàn)的重復(fù)性。如果不符合要求，有必要聯(lián)系儀表制造商征求意見。
光學(xué)裝置是否清潔主要通過觀察15-25環(huán)的高度來判斷。這些環(huán)的高度一般不應(yīng)超過5，會(huì)影響測(cè)試結(jié)果的真實(shí)性。如果儀器的光學(xué)裝置(鏡片)不干凈，會(huì)導(dǎo)致15-25圈的高度異常。當(dāng)其高度超過10時(shí)，會(huì)明顯影響測(cè)試結(jié)果的真實(shí)性。
如果進(jìn)樣器是穩(wěn)定的，一種是聽水泵的聲音是否穩(wěn)定，另一種是觀察測(cè)試窗口的鏡頭中是否有氣泡。這兩個(gè)普通的噴射器基本沒問題。
運(yùn)用領(lǐng)域：可廣泛用于制作微波吸收材料，金屬粉末注射成型材料，各類超硬材料和粉末冶金制品添加劑等技術(shù)領(lǐng)域 水煤漿的粒度分布較寬，上限可達(dá)500微米，下限比微米級(jí)還細(xì)，分散劑吸附到煤粒表面后，在煤粒表面形成很薄一層添加劑分子和水化膜，能顯著地降低溶液的表面張力，已經(jīng)廣泛應(yīng)用于工業(yè)鍋爐和工業(yè)爐窯，水煤漿的粒度分布關(guān)系到水煤漿的粘度提高煤粒表面的潤濕性
粒度儀清潔保養(yǎng)方法：
一般來說，在被測(cè)流體中沖洗激光粒度儀測(cè)量單元就足夠了。要去除頑固殘留物，可以在漂洗液中加入洗滌劑。滴幾滴表面活性劑或表面活性劑家用清潔劑(洗滌液，如液體肥皂)，可以更*地清潔測(cè)量細(xì)胞。
保養(yǎng)時(shí)的注意事項(xiàng)：
1、在開始工作之前要斷開電源。
2、切忌不要讓任何樣品進(jìn)入到粒度儀是的主機(jī)內(nèi)部
3、嚴(yán)格按照警告標(biāo)志指示來操作
4、不要擅自拆開機(jī)器來清潔內(nèi)部，請(qǐng)聯(lián)系專業(yè)的維修公司。
當(dāng)用硬自來水進(jìn)行測(cè)量時(shí)，你可能會(huì)觀察到一些水垢殘留在濕分散裝置的軟管和蓄水池的內(nèi)壁上。此外，有機(jī)物的積累也可能在管的內(nèi)表面形成一層涂層，在激光粒度儀測(cè)量其他顆粒時(shí)可能對(duì)測(cè)量結(jié)果產(chǎn)生不利影響。因此，用戶需要定期檢查和維修計(jì)量罐內(nèi)部及管道。
粒度及粒度分布是磨料的重要物理特性參數(shù)普通磨料是美國式沉降管和掃描式光電沉降儀 A為常數(shù)，當(dāng)N很大時(shí)，可取1，那么有(2)從(1)式還可推出團(tuán)聚體堆積密度(或填充率)(3)式中，ρ(R)，ρ(a)分別為團(tuán)聚體和一次顆粒質(zhì)量密度，如果一個(gè)散射系統(tǒng)是單分散的，小角散射強(qiáng)度[6](4)其中
海鑫瑞粒徑儀參數(shù)不準(zhǔn)確維修
形狀，結(jié)構(gòu)以及成分，組成和濃度等信息 2.2組裝某器械公司生產(chǎn)的霧化器，M，Kerker系統(tǒng)論述了光及電磁波散射的一般規(guī)律，為散射理論的進(jìn)一步發(fā)展做出了貢獻(xiàn)[4]，1983年，C，F(xiàn)，Bohren，O，R，Huffman綜合前人的成果，又發(fā)表了關(guān)于微小粒子對(duì)光散射及吸收的一般規(guī)律
金屬注射成型，熱噴涂，金屬拋丸等行業(yè)，球形奧氏體不銹鋼粉主要用于噴涂耐蝕和耐熱涂層，其涂層光亮，致密，耐蝕耐熱性能，球形馬氏體不銹鋼粉通常用火焰噴涂和等離子噴涂制備耐磨耐蝕涂層及厚涂層，對(duì)其進(jìn)行了嚴(yán)格的規(guī)格質(zhì)量規(guī)范它是目前顆粒測(cè)試中的主流理論nisbhahdugd