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貨物所在地:
上海上海
產(chǎn)地:
日本
更新時(shí)間:
2021-08-26 16:49:24
有效期:
2021年8月26日 -- 2022年8月26日
已獲點(diǎn)擊:
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真空吸盤可繞Z軸旋轉(zhuǎn),噴嘴可沿X、Y、Z移動(dòng),國產(chǎn)諧波減速機(jī)廠家CSF-25-160-2A-GR圍繞Z旋轉(zhuǎn)。噴嘴沿硅片徑向分滴光刻膠,這樣光刻膠就可以均勻噴涂在硅片表面上。光刻膠涂覆后,在硅片邊緣的正反兩面都會(huì)有光刻膠的堆積。國產(chǎn)諧波減速機(jī)廠家CSF-25-160-2A-GR邊緣的光刻膠一般涂布不均勻,不能中“背面EBR"裝置為邊緣光刻膠的去除裝置。

軟烘的目的是去掉光刻膠中的溶劑、增強(qiáng)光刻膠的粘附性、釋放旋轉(zhuǎn)涂膠產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力、改善線寬控制、防止光刻膠粘附到其他器件上。軟烘在真空熱板上進(jìn)行

一般來說,互連材料淀積在硅片表面,然后有選擇性地去除它,就形成了由光刻技術(shù)定義的電路圖形。這種有選擇性地去除材料的工藝過程,叫做刻蝕,在顯影檢查完后進(jìn)行,刻蝕工藝的正確進(jìn)行非常關(guān)鍵,否則芯片將不能工作。更重要的是,一旦材料被刻蝕去掉,在刻蝕過程中所犯的錯(cuò)誤將難以糾正。刻蝕的要求取決于要制作的特征圖形的類型,如合金復(fù)合層、多晶硅柵、隔離硅槽或介質(zhì)通孔。

光刻包括兩種基本的工藝類型:負(fù)性光刻和正性光刻。負(fù)性光刻把與掩模版上圖形相反的圖形復(fù)制到硅片表面。正性光刻把與掩模版上相同的圖形復(fù)制到硅片上。這兩種基本工藝的主要區(qū)別在于所用光刻膠的種類不同。光刻工藝過程包括8個(gè)基本步驟:氣相成底模、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)和曝光、曝光后烘培、顯影、堅(jiān)膜烘培、顯影檢查。


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