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動態(tài)恒溫循環(huán)系統特征：

1、極寬的工作溫度范圍，-80~+200℃內無需換液體傳熱介質；

2、智能復疊PID動態(tài)恒溫控制系統，高精度，可編程快變溫，零超調，溫度波動度±0.02℃，尤其適合外部工藝系統；

3、步進馬達驅動熱氣旁通復疊超低溫制冷加熱系統，高能效，超低溫，大冷量，低溫度-90℃，大制冷量10KW。ACC工作溫度高達+200℃；

4、浸入式磁力驅動變頻控制高低溫多級離心泵，高揚程大流量，零泄漏低噪聲，超寬的工作溫度范圍，極低的內在溫度以及隨反應釜耐壓、溫度和液體粘度變化的可編程循環(huán)泵轉速控制；

5、密閉循環(huán)系統，額外膨脹容器自動維持內膽液位高度，液體傳熱介質無低溫吸收水汽和高溫氧化之虞，無蒸汽、煙霧或異味；

6、7寸高分辨率真彩觸摸屏多功能操作顯示面板和工業(yè)級PLC，提供圖形，曲線，中英文等多種顯示方式，清晰顯示內外溫度程序運行數據、報警歷史及其他儀器工作狀態(tài)，操作簡便；

7、可選USB和以太網接口，方便數據下載和遠程控制；

8、可選現場正壓防爆系統，防爆等級ExⅡ2G pxb sib sebⅡC T4;或遠程防爆控制系統，防爆等級ExⅡ2G pxb sib sebⅡC T4，滿足IEC60079-2《易爆氣體環(huán)境中的設備：加外壓殼P》或電氣防爆設備指令ATEX2014/34/EU。

動態(tài)恒溫循環(huán)系統XT5738DTS系列 技術參數：

典型應用

 工藝試驗（高壓釜、夾套反應釜、中試系統、微工廠系統、研發(fā)放大試驗及公斤級實驗室）

材料試驗

試驗臺

半導體工業(yè)

真空艙

蒸餾系統等