等離子體表面處理儀是一種干式工藝，（plasmacleaner）又稱等離子清洗機(jī)，等離子表面改性設(shè)備,電漿清潔機(jī),等離子表面處理機(jī),等離子體表面處理設(shè)備,等離子蝕刻機(jī),等離子清洗器,等離子清洗儀，等離子體材料表面改性處理設(shè)備等離子表面處理省去了濕法化學(xué)處理工藝中所*的烘干，廢水處理等工藝；與其他干式工藝如放射線處理、電子束相比，等離子清洗機(jī)*之處在于它對(duì)材料的作用只發(fā)生在其表面幾十至數(shù)千埃厚度范圍內(nèi)，既能改變材料表面性質(zhì)又不改變本體性質(zhì)。廣泛用于等離子清洗,刻蝕,等離子鍍,等離子涂覆,等離子灰化和表面改性。

等離子體表面處理儀（plasmacleaner）的優(yōu)點(diǎn)：   

1）環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣-固相干式反應(yīng),不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無(wú)污染。    

2）廣適性：不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；    

3）溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。 

4）功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10-1000A），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能； 

5）低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。

6）全過程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。

7）處理物幾何形狀無(wú)限制：大或小，簡(jiǎn)單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。