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等離子清洗機處理晶圓光刻膠
閱讀：666 發(fā)布時間：2021-11-22
光刻膠又稱光致抗蝕劑，光刻膠經(jīng)過曝光、顯影和刻蝕等方式在每一層結(jié)構(gòu)面上形成所需要的圖案，在進行后一層處理時，需要將前一次使用后的光刻膠*去除。
光刻膠傳統(tǒng)的去除方法是采用濕式方法去除，這樣最終的結(jié)果就是清洗不*，容易引入雜質(zhì)等等。
在低溫等離子清洗技術(shù)逐漸成熟時，晶圓光刻膠都會選擇用這種干式清洗來進行處理，像金鉑利萊的等離子清洗機就可以有效去除晶圓光刻膠和表面的有機物，不僅不會破壞原有的性能的同時還活化了晶圓表面，大大提高晶圓表面的親水性，這樣也使得晶圓的質(zhì)量越來越高。
等離子清洗機是利用等離子體的物理和化學特性，使得材料表面特性發(fā)生變化，從而提高材料表面的親水性和粘接性等等，因此也被諸多行業(yè)應用。國內(nèi)有很多等離子清洗機品牌，大家一定要貨比三家，這里給大家推薦一下金鉑利萊，它的最大的優(yōu)點就是等離子清洗設(shè)備種類齊全，設(shè)備質(zhì)量好，關(guān)鍵還在于售前售后服務都好！
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