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晶片用等離子清洗機(jī)處理有什么影響嗎？
閱讀：598 發(fā)布時(shí)間：2021-5-7
等離子是什么狀態(tài)？
等離子體又叫電漿，英文名為plasma，它并非很神秘，等離子體是不同于固體、液體和氣體的物質(zhì)第四態(tài)。物質(zhì)由分子構(gòu)成，分子由原子構(gòu)成，原子由帶正電的原子核和圍繞它的、帶負(fù)電的電子構(gòu)成。當(dāng)被加熱到足夠高的溫度或其他原因，外層電子擺脫原子核的束縛成為自由電子，就像下課后的學(xué)生跑到操場上隨意玩耍一樣。
電子離開原子核，這個(gè)過程就叫做“電離”。這時(shí)，物質(zhì)就變成了由帶正電的原子核和帶負(fù)電的電子組成的、一團(tuán)均勻的“漿糊”，因此人們戲稱它為離子漿，這些離子漿中正負(fù)電荷總量相等，因此它是近似電中性的，所以就叫等離子體。
等離子體去膠機(jī)處理晶片的影響
等離子體可分為兩種：高溫和低溫等離子體。現(xiàn)低溫等離子體廣泛應(yīng)用于多種生產(chǎn)領(lǐng)域。
在使用等離子去膠機(jī)（等離子清洗機(jī)）中，我們都知道，去膠氣體為氧氣。把需要清洗的晶片放入真空等離子去膠機(jī)反應(yīng)系統(tǒng)中，受高頻及微波能量效果，電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子、氧分子和電子等混合的等離子體形成輝光柱。具有強(qiáng)氧化才能的游離態(tài)氧原子在高頻電壓效果下與光刻膠膜反應(yīng)，最終完成。
等離子去膠機(jī)的使用優(yōu)勢在于它使用操作相對簡單，去膠率更高，表面也比較干凈光潔無劃痕，成本低，環(huán)保。
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