大型超純水設(shè)備

大型超純水設(shè)備簡介

一、純水設(shè)備系統(tǒng)主要采用全自動反滲透+電去離子（EDI）+拋光混床超純水處理技術(shù)，前置預(yù)處理加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質(zhì)，然后運用CEDI及拋光混床系統(tǒng)，進一步提升水質(zhì)，使出水達到用水工藝要求。超純水設(shè)備系統(tǒng)采用全自運控制，具有產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、操作簡便、運行費用低、綠色環(huán)保、維護方便等優(yōu)點，廣泛應(yīng)用于工業(yè)水處理等相關(guān)行業(yè)。

二、系統(tǒng)組成

     預(yù)處理：一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數(shù)和余氯等其他雜質(zhì)，達到反滲透的進水要求。預(yù)處理系統(tǒng)的設(shè)備配置應(yīng)該根據(jù)原水的具體情況而定。

      反滲透：主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質(zhì)，使出水滿足使用要求。

      后處理：是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設(shè)備。后處理系統(tǒng)能把反滲透的出水水質(zhì)更好的提高，使之滿足使用要求。

 清洗：主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。當反滲透系統(tǒng)受到污染出水指標不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢復(fù)功效。

  電氣控制：是用來控制整個反滲透系統(tǒng)正常運行的。包括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電氣控制柜等。

三、設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

1、電子工業(yè)用水：半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；實驗室和中試車間；光電產(chǎn)品；其他高科技精微產(chǎn)品。

2、精密機械行業(yè)用水：汽車零部件的生產(chǎn)加工；飛機、汽車發(fā)動機葉片的生產(chǎn)加工；打印機、傳真機激光頭的生產(chǎn)加工；光驅(qū)、硬盤的讀寫磁頭及盤片的生產(chǎn)加工；其他對產(chǎn)品有特殊要求的精密機械產(chǎn)品的生產(chǎn)加工。

3、電廠鍋爐行業(yè)用水：符合國家或行業(yè)鍋爐給水標準（GB1576-79、DL/T561-95），適合中、高壓鍋爐補水水質(zhì)要求。電阻率在0.5-10MΩ.cm的（超）純水。

4、精細化工行業(yè)用水：化工材料的生產(chǎn)和加工過程所用的溶劑及清洗過程；電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材料；石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純；高純墨水、傳真打印機中的噴墨、納米墨水。

5、電鍍涂裝行業(yè)用水：電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15uS/cm-5uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導(dǎo)率在10uS/cm以下純水來清洗，此外超濾和反滲透還可以用來回收漂洗液中的貴重金屬離子，滲透過來的水再返回作鍍件清洗之用。

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