山東純凈水生產(chǎn)設(shè)備廠家

山東純凈水生產(chǎn)設(shè)備廠家是采用前預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級(jí)處理等方法，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有 機(jī)物均去除很低程度的純水設(shè)備。EDI超純水設(shè)備是除采用了反滲透技術(shù)外，還采用了EDI電除離子裝置（EDI連續(xù)電除鹽裝置）的超純水設(shè)備，是對(duì)采用了EDI的超純水設(shè)備的一種泛稱。

1.低壓沖洗反滲透設(shè)備

 定期對(duì)反滲透設(shè)備進(jìn)行大流量、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當(dāng)反滲透設(shè)備進(jìn)水SDI突然升高超過5.5以上時(shí)，應(yīng)進(jìn)行低壓沖洗，待SDI值調(diào)至合格后再開機(jī)。

2.反滲透設(shè)備停運(yùn)保護(hù)

 由于生產(chǎn)的波動(dòng)，反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運(yùn)，短期或長(zhǎng)期停用時(shí)必須采取保護(hù)措施，不適當(dāng)?shù)靥幚頃?huì)導(dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。

 短期保存適用于停運(yùn)15d以下的系統(tǒng)，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護(hù)反滲透設(shè)備。實(shí)踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時(shí)，反滲透設(shè)備中的水存放3d就會(huì)發(fā)臭變質(zhì)，有大量細(xì)菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時(shí)，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時(shí)，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進(jìn)出口閥門。

 長(zhǎng)期停用保護(hù)適用于停運(yùn)15d以上的系統(tǒng)，這時(shí)必須用保護(hù)液(殺菌劑)充入凈水設(shè)備反滲透裝置進(jìn)行保護(hù)。常用殺菌劑配方(復(fù)合膜)為甲醛10(質(zhì)量分?jǐn)?shù))、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。

設(shè)備調(diào)試：

   啟動(dòng)前準(zhǔn)備工作：

必須仔細(xì)閱讀EDI說明書，并明確控制面板的內(nèi)容。

檢查所有的水管道和電路連接，并確認(rèn)無誤。

調(diào)校儀表。

檢查流量開關(guān)動(dòng)作是否正常。

檢查電源系統(tǒng)輸出是否正常。

 準(zhǔn)備好數(shù)據(jù)表格和運(yùn)行記錄本，記錄起始數(shù)據(jù)和觀察到的任何現(xiàn)象。

EDI超純水技術(shù)具有技術(shù)*、操作簡(jiǎn)便、無污染，是清潔生產(chǎn)技術(shù)，在微電子工業(yè)、電力工業(yè)、醫(yī)藥工業(yè)、化工工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域得到日趨廣泛的應(yīng)用。