水處理設備廠商

水處理設備廠商概述：

高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而，膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程（EDI）之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質并可以連續(xù)工作。而且，膜處理過程在機械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過程是膜處理過程中增長快的業(yè)務之一。EDI帶有特殊水槽，水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI主要用于把總固體溶解量（TDS）為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。

　　EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。 EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水. EDI設備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃）。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm（25℃），但是根據去離子水用途和系統(tǒng)配置設置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm（25℃）的純水。

進水指標要求

通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：＜25ppm。

電導率：＜40μS/cm

ＰH：6.0～9.0。當總硬度低于0.1ppm時，

EDI工作的pH范圍為8.0～9.0。

溫度： 5～35℃。

進水壓力：＜4bar（60psi）。

硬度：（以CaCO3計）：＜1.0ppm。

有機物（ TOC）：＜0.5ppm。

氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。

變價金屬： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。

H2S：＜0.01ppm。

二氧化硅：＜0.5ppm。

色度：＜5APHA。

二氧化碳的總量：＜10ppm

 SDI 15min：＜1.0。