電子超純水設備

 電子超純水設備用在電子、半導體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。在光伏行業(yè)電子管生產中，如其中混入雜質，就會影響電子的發(fā)射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。因此水的質量相當重要。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質技術分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質。  

    EDI超純水設備作為制取超純水的設備，作為反滲透設備后的二次除鹽設備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發(fā)電廠的鍋爐的補給水，以及其它應用超純水。

    EDI超純水設備將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元,EDI組件中將一定數量的EDI單元間用網狀物隔開，形成濃水室,又在單元組兩端設置陰/陽電極,在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除,而通過濃水室的水將離子帶出系統。

    EDI超純水設備技術介紹：EDI電去離子設備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電導率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達18MΩ.cm(25℃)，但是根據去離子水用途和系統工藝、配置不同，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水。

    EDI超純水設備的工藝流程：

EDI超純水設備的特點：1、可連續(xù)，穩(wěn)定地生產高品質純水，無需因樹脂再生而停機；2、無污染物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資；3、設備結構緊湊，占地面積小，節(jié)省空間，同時還具有節(jié)能優(yōu)點；4、出廠完成裝置調試，現場工作量小，上崗培訓容易；5、日常保養(yǎng)，操作簡單，勞動強度低。6、脫鹽率大于99.9%，效率遠遠高于兩級反滲透和單純的離子交換。