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當(dāng)前位置:上海玉研科學(xué)儀器有限公司>>離體組織實(shí)驗(yàn)>> 細(xì)胞損傷儀
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更新時(shí)間:2024-10-11 07:09:58瀏覽次數(shù):378次
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細(xì)胞損傷儀(Cell Injury Controller II)采取電子式控制,適合腦源性細(xì)胞培養(yǎng)樣品,或其它離體培養(yǎng)細(xì)胞的牽張性(strain-induced trauma)損傷模型制作。損傷后可進(jìn)行神經(jīng)生化、形態(tài)學(xué)、生理學(xué),藥物干預(yù)等方面的研究。
細(xì)胞損傷控制儀設(shè)計(jì)的組織培養(yǎng)系統(tǒng)。細(xì)胞損傷控制儀把壓縮氣體送到每個(gè)培養(yǎng)室,以造成培養(yǎng)組織牽張性的損傷,損傷的嚴(yán)重程度是通過(guò)控制進(jìn)出密閉培養(yǎng)室的氣體量來(lái)實(shí)現(xiàn)。培養(yǎng)室的峰值壓力同時(shí)被記錄下來(lái),這個(gè)數(shù)值可以用來(lái)精確地表明引起牽張性細(xì)胞損傷的氣壓值。
細(xì)胞損傷控制儀(CIC II)可以搭配Flex I® 29.45cm2 culturing trays I (針對(duì)VCU早期的細(xì)胞損傷控制儀)或BioFlex® 57.75cm2 culturing trays。
根據(jù)所采用的細(xì)胞種類(lèi)、損傷的程度、培養(yǎng)的狀況,受損后的細(xì)胞或許會(huì)因?yàn)樯鲜鲆蛩厮劳龌蛐迯?fù),所以VCU的細(xì)胞損傷控制儀(CIC II)很適合應(yīng)用在下列損傷反應(yīng)研究:細(xì)胞受損、修護(hù),死亡,藥物介入。
主要技術(shù)參數(shù):
采用電子式控制,適合腦源性細(xì)胞培養(yǎng)樣品的制作
適合細(xì)胞受損、修護(hù),死亡,藥物介入等方面研究
使用Flexcell Int’l corp組織培養(yǎng)系統(tǒng)
帶獨(dú)立的細(xì)胞培養(yǎng)室,通過(guò)控制輸入的氣體量實(shí)現(xiàn)細(xì)胞損傷
膜伸展程度:120%-155%
膜變形范圍:5.5mm-7.5mm
傷等效峰值壓力范圍:8.2-11.5PSI
培養(yǎng)室的峰值壓力可被實(shí)時(shí)被記錄下來(lái)
可以搭配Flex I® 29.45cm2 culturing trays I或BioFlex® 57.75cm2 culturing trays。
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