日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111
設備是為MEMS器件和各種半導體研究開發(fā)的噴涂機。
1，支持MEMS器件
2，在不平坦的表面上均勻涂膜厚度
3，通孔和溝槽填充應用
4，配有加熱器內置的樣品架。樣品溫度gao可控制在100°C。
5，伺服電機使用我們的“ Si-servo"，它具有低振動，低熱量產生和高精度的特點。
6，特殊規(guī)格也可提供。

日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111

設備是為MEMS器件和各種半導體研究開發(fā)的噴涂機。
 1，支持MEMS器件 
2，在不平坦的表面上均勻涂膜厚度 
3，通孔和溝槽填充應用 
4，配有加熱器內置的樣品架。樣品溫度gao可控制在100°C。 
5，伺服電機使用我們的“ Si-servo”，它具有低振動，低熱量產生和高精度的特點。
6，特殊規(guī)格也可提供。

特征

1.可以進行高精度，均勻的膜厚涂布?

使用可以制成微粒的噴嘴，即使在常規(guī)旋涂器難以涂覆的區(qū)域，例如基材的傾斜表面，梯形和直角頂點，也可以形成均勻的膜。
另外，可以將內嵌的抗蝕劑施加到微調器難以實現(xiàn)的空腔，通孔和溝槽結構上。
適用的膜厚從旋轉器級薄膜到超厚膜。膜厚度可以為1μm至600μm。（取決于化學性質。）

2.可以使用多種化學溶液

它支持AZ電子材料的AZ-P4000系列，Kayak Microchem Co.的SU8，KMPR系列等，
以及苯并環(huán)丁烯樹脂（BCB）和各種聚合物。
也可以使用高粘度化學品。（取決于化學性質。）

3.減少化學藥品的浪費

由于它被涂到小的必要表面上，因此不會浪費化學液體，例如旋涂。
另外，由于注射器被放置在噴霧單元附近，因此藥液管線中的廢物少。

日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111

　技術指標　基本規(guī)格

項目	規(guī)范
設備*名稱	DC111
	噴涂機
格式	噴嘴移動/樣品固定噴涂方法
樣品臺尺寸	DC111：220×220mm□
噴嘴移動范圍	DC111：垂直和水平300毫米
噴嘴移動速度	10-300毫米/秒
化學品體積控制系統(tǒng)	通過化學空氣進料和微針
顆粒大小	大約5-15μm（取決于所用的流體）

　效用

項目	規(guī)范
清潔干燥的空氣	5Kg / cm 2（≒0.5Mpa）15升/分鐘以上 （氣管連接口Φ6mm一觸式接頭）
電源供應	DC111：1ΦAC100V 1800瓦
排氣	外部排氣量2300升/分鐘 （連接管直徑Φ100mm）

　外形尺寸和重量

項目	內容
身體尺寸	DC111：1000 x 650 x 680毫米（高x闊x深） （不包括突起）
重量	DC111：100公斤