日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV
在我們的產(chǎn)品線中，損傷分散小的珠磨機(jī)。針對(duì)“超低損傷納米顆粒分散體"進(jìn)行了優(yōu)化的濕微珠磨機(jī)，是使用φ15μm至φ50μm磁珠進(jìn)行低沖擊攪拌的設(shè)備，這是一種先進(jìn)的寬分離器三角磨機(jī)。

日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV

一liu的超低沖擊濕法微珠磨機(jī)，用于納米分散

總覽

　在我們的產(chǎn)品線中，損傷分散小的珠磨機(jī)。針對(duì)“超低損傷納米顆粒分散體”進(jìn)行了優(yōu)化的濕微珠磨機(jī)，是使用φ15μm至φ50μm磁珠進(jìn)行低沖擊攪拌的設(shè)備，這是一種先進(jìn)的寬分離器三角磨機(jī)。
　帶有新設(shè)計(jì)的平面攪拌器/珠分離轉(zhuǎn)子的濕珠磨機(jī)可實(shí)現(xiàn)低離心力處理。通過減小從珠粒到納米顆粒的沖擊力，同時(shí)保持珠粒的足夠的攪拌速度，在維持每單位珠粒量的加工速度的同時(shí)，對(duì)納米顆粒的損害小化。
　另外，為了滿足xin的納米分散需求，轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)使研磨機(jī)中珠粒的攪拌能量均勻，從而可以進(jìn)行均勻的分散處理。

特征

1.可以分散gao級(jí)別超低損傷納米顆粒的珠磨機(jī)！

珠磨機(jī)，即使使用軟顆?；蚣{米顆粒的漿液，也可以進(jìn)行超低沖擊處理，并且可以進(jìn)行納米分散處理且損傷小。它可以用于分散軟納米顆粒，例如100 nm級(jí)鈦酸鋇和有機(jī)顏料，而傳統(tǒng)的珠磨機(jī)無法對(duì)其進(jìn)行適當(dāng)處理。

2.通過分散處理納米顆粒漿料抑制粘度和凝膠化的增加！

這是一種珠磨機(jī)，可以將由于顆粒破壞而產(chǎn)生的細(xì)小碎片抑制到小，即使使用納米顆粒也可以抑制漿料的粘度和凝膠化。在確保漿料的流動(dòng)性和改善長(zhǎng)期保存期間的產(chǎn)品漿料的穩(wěn)定性方面是有效的。

3.納米粒子的粒度分布可以變得更銳利！

由于在珠磨機(jī)中的攪拌功率高度均勻，因此在漿料中的分散度均勻，并且可以抑制顆粒碎屑，因此即使使用幾十nm的納米顆粒，也可以獲得清晰的粒徑分布。可以提高產(chǎn)品性能，并且可以在批量生產(chǎn)條件下復(fù)制產(chǎn)品設(shè)計(jì)時(shí)預(yù)期的產(chǎn)品性能。

運(yùn)行條件

可用磁珠直徑

Φ15μm?Φ0.3毫米

珠粒分離器圓周速度

6m /秒至18m / s

應(yīng)用實(shí)例和終產(chǎn)品實(shí)例

高粘度支撐

光學(xué)材料（氧化鋯和二氧化硅在樹脂原料中的納米分散體），導(dǎo)電涂料，化妝品（氧化鈦和氧化鋅在油中的分散體）等。

支持低損傷擴(kuò)散

電子材料（鈦酸鋇，中空二氧化硅），電極材料（納米銀，鎳等），熱射線阻擋材料（ITO等），光催化劑（氧化鈦），
液晶顏料等。

介紹Apex Mill系列的產(chǎn)品陣容

日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV

產(chǎn)品名稱	大綱	可用磁珠直徑
頂點(diǎn)磨	濕式研磨珠磨機(jī) 　立式濕式研磨珠磨機(jī)，可有效處理微米至亞微米級(jí)的研磨	φ0.3毫米?φ5毫米
超尖磨機(jī)	*yi臺(tái) 　微珠磨粉機(jī)納米珠磨粉機(jī)的標(biāo)準(zhǔn)模型， 　可以使用小直徑為15μm的微珠 粉，它是一種納米粉碎和納米分散的微珠磨粉機(jī)。	φ15?1毫米
雙頂點(diǎn)磨	濕式微珠研磨機(jī)， 　用于雙軸微珠研磨和納米顆粒分散，特別是用于低損傷的納米顆粒分散	φ15?1毫米
寬分離器 Apex Mill	高流量高粘度珠磨機(jī) 　濕式微珠磨機(jī)，與使用微珠的高流速和高粘度納米顆粒分散體兼容	φ15?0.3毫米
Ultra Apex Mill Advance	超低損傷納米分散機(jī) 　高檔超低沖擊納米分散濕法微球磨機(jī)	φ15?0.3毫米
Apex Mill F＆M	用于藥品，食品和化妝品的無 　密封 　珠磨機(jī)，適用于粉碎有機(jī)物質(zhì)。珠磨機(jī) 省略了機(jī)械密封，以提高清潔性并防止污染， 　尤其適用于納米級(jí)制藥	φ0.1毫米?φ5毫米