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ULCoat系列可以在處理過的表面上沉積薄膜
閱讀:704 發(fā)布時間:2023-5-23ULCoat系列可以在處理過的表面上沉積薄膜
ULCoat系列
通過在放電后向等離子體中注入前驅(qū)體,ULCoat系列可以在處理過的表面上沉積薄膜。
ULCoat是一款可將前驅(qū)體汽化并注入等離子體中,后由噴嘴完成薄膜沉積的系統(tǒng)。ULCoat系列需要與ULS OMEGA系列配合使用。
ULCoat系列的標準版本是為了允許使用有機金屬作為前驅(qū)體進行氧化硅(SiOx)的沉積而設(shè)計的。當然,我們也可以根據(jù)要求開發(fā)其他薄膜成分。
您可以與我們的研發(fā)實驗室合作,在研發(fā)合同的框架下,定制您的專屬解決方案。
ULCoat系列技術(shù)特點
– 與ULS OMEGA系列搭配使用
– 薄膜沉積
– 沉積厚度范圍從50至1000納米
– 沉積薄膜厚度均勻(+/- 2%)
– 中高處理速度可達200nm.cm2/s
– 專為氧化硅(SiOx)的沉積進行優(yōu)化
噴嘴
在注入等離子體之前,液態(tài)前驅(qū)體的流速是可以控制的。該模塊由幾個部分組成。
– 前驅(qū)體儲存罐
– 前驅(qū)體流量控制單元
– 氣體流量控制單元
– 加熱器模塊(可選)
直觀的數(shù)字觸控屏
– 內(nèi)置觸摸屏(OEM版本除外)
– 直觀的控制方式
– 多語言界面
– 故障檢測和診斷
– 實時顯示指令
適用氣體
– 空氣
– 氮氣
– 其他混合氣體
ULCoat系列的優(yōu)勢
– 工作溫度低
– 沉積薄膜厚度均勻(+/- 2%)
– 可以研究其他類型的沉積
– OpenFlow版本可用于開發(fā)新的沉積工藝