瑞士Kinematica PT3100D高剪切分散機(jī)采用“轉(zhuǎn)子/定子"技術(shù)，現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于均質(zhì)設(shè)備，用于分散、乳化或起泡的均質(zhì)工藝，從而降低固體顆粒、液滴、氣泡的粒徑尺寸，使其達(dá)到微米級或更低。該原理已成為*的將固體、液體或氣體均勻分散在液相中的標(biāo)準(zhǔn)。

瑞士KINEMATICA POLYTRON PT3100D 高剪切分散機(jī)/均質(zhì)器的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到30000rmp，分散頭轉(zhuǎn)子的高速線速度已經(jīng)在減小液滴或者顆粒的粒徑方面得到了應(yīng)用，可以達(dá)到納米級的粒徑。使用該電機(jī)配合上不同型號和不同直徑大小的分散頭，就可以得到適合粒徑的產(chǎn)品。多種不同形式的工作頭，直徑從5.5mm 到36mm， 處理量從0.1ml到30000ml。 

KINEMATICA POLYTRON PT3100D 高剪切分散機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)

• 不同過程參數(shù)信息等電子LED顯示屏顯示
• 三種不同操作模式: 標(biāo)準(zhǔn)模式，時間模式，自動模式
• 變頻馬達(dá)，運(yùn)行平穩(wěn)，啟動平穩(wěn)柔和
• 轉(zhuǎn)速范圍：轉(zhuǎn)速50-30000RPM ，功率1200W
• 低噪音設(shè)計， 靜音驅(qū)動系統(tǒng)，噪音約73分貝（空載，30000rpm）
• 轉(zhuǎn)速控制技術(shù)，反饋電路設(shè)計，輸出功率會隨樣品粘度變化而變化，保證均質(zhì)乳化在恒定轉(zhuǎn)速下進(jìn)行
• 防馬達(dá)過熱、過載，防分散頭抱死等，會在液晶屏幕上顯示信息, 并有聲音報警
• 液晶顯示屏, 控制鍵盤設(shè)計, 可以控制馬達(dá)，轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)，編程控制等
• 轉(zhuǎn)速可達(dá)30000rpm，大軸心轉(zhuǎn)速可達(dá)32m/s （依所選分散器和產(chǎn)品特性不同而不同）
• 多種攪拌頭，應(yīng)用范圍廣泛,
• 三種可調(diào)試架座 (選配)
• 電源要求：220~230V，50/60Hz，1200W
• 標(biāo)準(zhǔn)配置：主機(jī)，說明書（不含分散頭、支架）

KINEMATICA POLYTRON PT3100D 高剪切分散機(jī)技術(shù)參數(shù)

訂貨號	原始型號	規(guī) 格 參 數(shù)
11010121	PT3100D	驅(qū)動器，轉(zhuǎn)速：50~30000rpm，處理量：0.1~10,000ml，功率：1200W
11030297	PT-DA 05/2EC-F078	選配件：分散刀頭（EC標(biāo)準(zhǔn)型），處理量：0.1~5 ml，Ø5xL78mm，SUS316
11030298	PT-DA 07/2EC-F101	選配件：分散刀頭（EC標(biāo)準(zhǔn)型），處理量：0.3~10 ml，Ø7xL101mm，SUS316
11030299	PT-DA 12/2EC-F154	選配件：分散刀頭（EC標(biāo)準(zhǔn)型），處理量：3~250 ml，Ø12xL154mm，SUS316
11030302	PT-DA 20/2EC-F193	選配件：分散刀頭（EC標(biāo)準(zhǔn)型），處理量：20~2000 ml，Ø20xL193mm，SUS316
11030305	PT-DA 30/2EC-F250	選配件：分散刀頭（EC標(biāo)準(zhǔn)型），處理量：100~4000 ml，Ø30xL250mm，SUS316
11030311	PT-DA 30/4EC-F250	選配件：分散刀頭（EC標(biāo)準(zhǔn)型），處理量：100~4000 ml，Ø30xL250mm，SUS316
11030313	PT-DA 36/2EC-F250	選配件：分散刀頭（EC標(biāo)準(zhǔn)型），處理量：200~4500 ml，Ø36xL250mm，SUS316
11030317	PT-DA 36/4EC-F250	選配件：分散刀頭（EC標(biāo)準(zhǔn)型），處理量：200~4500 ml，Ø36xL250mm，SUS316
11040025	ST-F 10/600	選配件：H型支架，由氧化鋁制成，高度可調(diào)，可旋轉(zhuǎn)的PTFE涂層工作臺
11040033	ST-P 14/590+500	選配件：電動支架，底部帶有防滑墊