OTF-1200X 1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐
是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè),在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下,對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的專用設備。
主要特點
雙層殼體,配有循環(huán)風冷系統(tǒng),殼體溫度<60℃。
2、內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高加熱效率,同時延長使用壽命。
3、采用PID控制器,可以設置30段升降溫程序。
4、設有超溫及斷偶報警功能。
5、已通過CE認證。
OTF-1200X 1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐技術參數(shù)
安裝條件
本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:不需要
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地。
3、氣:如作為CVD系統(tǒng)使用,客戶需自備氣源(標準帶有寶塔接頭,可自費改制成為雙卡套接頭)。
4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,承重100kg以上
5、通風裝置:需要。
技術參數(shù)
1、電源:AC 220V 50Hz/60Hz 2.5KW
2、石英管:外徑?50mm,內徑?44mm,長1000mm
外徑?60mm,內徑?54mm,長1000mm
外徑?80mm,內徑?74mm,長1000mm
外徑?100mm,內徑?94mm,長1000mm
3、加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲,表面涂有氧化鋯
4、加熱區(qū)域:440mm
5、工作溫度:最高1200℃(必須通入惰性氣體以防止爐管發(fā)生形變),連續(xù)工作1100℃
6、最大升降溫速率:20℃/min
7、控溫精度:±1℃
8、真空度:10-2torr(機械泵),10-5torr(分子泵)
9、泄漏率:<5mtorr/min
產品規(guī)格
尺寸:590mm×380mm×520mm;重量:40kg