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　　武漢大理石平臺(tái)拋光是石材護(hù)理晶面處理的前一道工藝流程或石材光板加工的   后一道程序。是如今石材護(hù)理的   重要的工藝流程之一，它不同于傳統(tǒng)意義上清潔公司業(yè)務(wù)范圍的大理石清洗打蠟拋光。

　　一、武漢大理石平臺(tái)拋光的現(xiàn)實(shí)意義：

　　1 、武漢大理石平臺(tái)在經(jīng)過拋光磨塊拋光后，光度可達(dá)90-100度，還原了石材出廠時(shí)的光度，實(shí)現(xiàn)了石材價(jià)值再現(xiàn)。晶面處理護(hù)理時(shí)，可以   省時(shí)、省力、節(jié)約成本，具耐磨性能。大理石打蠟拋光后，其表面光度下降，模糊不清晰，降低了石材的功能價(jià)值，不具觀賞性。

　　2 、由以上本質(zhì)與表象區(qū)別可以發(fā)現(xiàn)：大理石打蠟拋光必定被淘汰，淡出市場(chǎng)。由于大理石打磨拋光晶面護(hù)理的工藝原理與方法   *、能使大理石具觀賞性和延長(zhǎng)其使用壽命。

　　 二、武漢大理石平臺(tái)拋光與武漢大理石平臺(tái)打蠟的區(qū)別：

　　1、本質(zhì)區(qū)別：

　　a、武漢大理石平臺(tái)磨塊拋光是石材晶面處理的前奏或石材加工中的一道工藝流程。其主要原理是利用由無機(jī)酸、金屬氧化物等物質(zhì)合成的壓制磨塊配合機(jī)械磨盤的壓力、高速磨削力，水的作用在比較光滑的大理石表面進(jìn)行物理、化學(xué)化合作用，從而形成新的光亮晶體層。此晶體層具有超亮的、清晰的光度，光度可達(dá)90-100度。此晶體層是石材表層（1-2mm厚）的改性化合晶體層。

　　b、武漢大理石平臺(tái)清洗是大理石打蠟拋光的前奏，大理石清洗打蠟拋光是屬于80--90年代初期比較流行的大理石清潔保養(yǎng)保護(hù)措施，如今已經(jīng)失去市場(chǎng)和存在的意義。它的本質(zhì)是在新鋪石材（拋光板）面上覆蓋的一種丙烯酸樹脂與乳液的聚合物的薄薄涂層，就是我們常說的水蠟或地板蠟。再經(jīng)過高速、低壓力的拋光機(jī)配合纖維墊在石材表面摩擦，使樹脂涂層加光亮的一個(gè)過程。由于產(chǎn)品的   新，后來又出現(xiàn)了特光蠟、免拋蠟等，此涂層就類似于木地板上油的清漆。

　　c 、武漢大理石平臺(tái)護(hù)理晶面處理前的磨塊拋光工藝是石材表層與化學(xué)物的物理和化合作用過程。石材表層與底層化合成一個(gè)整體，不存在脫離層。

　　d 、武漢大理石平臺(tái)打蠟拋光上面的蠟層是附著于石材表面的，一層樹脂膜，與石材本身不存在化合反應(yīng)。此蠟?zāi)涌捎玫镀p輕一鏟，可以將蠟?zāi)は麟x于石材表面。

　　2、表象區(qū)別：

　　a、武漢大理石平臺(tái)磨塊拋光是石材理護(hù)理晶面處理的前奏，石材護(hù)理拋光后光度高、清晰度高，耐磨、耐踩，不易刮花，是石材使用功能的真實(shí)體現(xiàn)和價(jià)值延伸。

　　b、打蠟拋光后的光度低，光度不清晰、而且很模糊，不耐磨、不耐水，易刮花、氧化變黃使石材本質(zhì)形象降低。