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Uni-Ger?te德國
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Uni-Ger?te 03.32.54.99 德國 8481901000 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 25NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te AR017312 德國 8481901001 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 26NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te 02-EVA 30NH-4 CE0085AQ0563 德國 8481901002 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 27NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te 1-EVO 10-4R CE0085AQ0564 德國 8481901003 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 28NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te 1-EVO 10-4R 德國 8481901004 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 29NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te 1-4-EPVA 200-4 德國 8481901005 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 30NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te 4-EVSA 25NH-4.fr.02.32.99 德國 8481901006 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 31NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te 1-PRV 7-4.01 德國 8481901007 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 32NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te 02-EVA20N-4.05.38 德國 8481901008 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 33NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te MRKMA20N-2 德國 8481901009 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 34NH閥門，材質：鋼鐵
Uni-Ger?te 03-EVA10-3SOZRP 德國 8481901010 外殼 用途：適用于Uni-Ger?te牌4-EVSA 35NH閥門，材質：鋼鐵
TRIDONIC DALI USB 奧地利 8544421100 電纜 用途：電腦用，帶接頭，額定電壓5V，1M/根
IFM PL2654 Germany 9026209090 壓力傳感器
Ditabis BM 30 Exchangeable thermoblock for 30x micro tubes of 1.5 or 2.0 ml 800016300 德國 8479909090 配件 配件
isoloc NTS120-300 Germany
EMRAX 188 liquid cooled ip65 HV 德國 8501330000 電機 直流電機，功率80KW，用
burster 8435-6002 德國 9031809090 測力傳感器 用途：工業(yè)設備用，原理：通過檢測應力片變化測量力的大小，功能：測力，無結果顯示
WITTE 21375 德國 配件
Bürkert 00254455 德國 開關閥
burster 8712-100 德國 9031809090 位移傳感器 用途：數(shù)控機床用，功能：檢測機械位移量；原理：機械的位移引起電位器移動從而導致電阻變化，通過檢測電阻變化測量位移量；無測試結果顯示
WIKA WIKA-Manometer 422.12.100 1/2U 16 BAR MSP 16100 德國 9026209090 壓力表 功能：檢測壓力，檢測對象：液體和氣體
EBM K3G097-AK68-85 Austria 8414593000 離心風機 用途：車間通風用，安裝方式：固定安裝在通風管道中，輸出功率700W
phoenix E/MK 1 Poland 3926909090 固定夾 用途：電纜固定用，材質：聚氨酯
Bürkert 00418114 法國 接頭
RECKMANN 1R7-4X3-M8-2500 104988 德國 9025191000 溫度傳感器 原理：利用鉑電阻測量原理測量溫度，應用于工業(yè)溫度測量裝置中 非液體的/不可直接讀數(shù)
ETAS F-00K-107-770 Germany 8471800000 接口模塊 用途：適用于工控機，用于接口擴展
burkert 217256 Germany 8481804090 截止閥 用途：管道用，功能：控制管道流體的通斷，閥芯材質：鋼鐵，兩位兩通
Quintest PZS-W50-L 德國 噴碼機
MAYSER 1000842 Germany 8536411000 繼電器 用途：電路安全控制用，電壓24V
phoenix 2963941 Germany 8536411000 繼電器 用途：電路安全控制用，電壓24V
Baumuller 505495 德國 編碼器
DESOUTTER SD055-AB1470-S4Q 德國 8467190000 氣動螺絲刀 驅動方式：氣動，手提式
HBM 3-4412.0005 Germany 84836080 "Faltenbalg-Kupplung
Schaltkupplungen und andere Wellenkupplungen, einschl. Universalkupplungen, für Maschinen"
Holthausen ESWR-Mini 010 德國 9031809090 振動檢測儀 用途：工業(yè)機械用，原理：發(fā)射接收電渦流信號，動態(tài)檢測機械軸的位移變化情況，來檢測軸的振動變化，功能：測量機械振動量，無測量結果顯示
Bürkert 8077 567206 德國 9026100000 流量傳感器 功能：檢測流量，檢測對象：液體
INA PASE20-N Germany
Schwenk 461400 300 Germany 9017800000 不銹鋼直尺 用途：工廠測量用，功能：測量長度，品牌Schwenk
VEIT 4215720010 德國 8544421100 電纜 用途：熨燙臺用，帶接頭，額定電壓60V
Puls ML100.100 中國 8504401400 電源 用途：工業(yè)電器用，直流穩(wěn)壓電源，功率100W，精度1%
ROLAND P42AGS Germany 90319085 "Sensor
Teile und Zubeh?r für Instrumente, Apparate, Ger?te und Maschinen zum Messen oder Prüfen, a.n.g."
Schneider XCKJ390513H29EX Germany 85365080 開關
磁控濺射
磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，而上世紀 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。
磁控濺射定義
在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現(xiàn)高速率濺射的過程。
磁控濺射原理
磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。
磁控濺射種類
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。平衡態(tài)磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不*閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源
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