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蔡司場發(fā)射掃描電鏡【品牌故事】
      世界可見光及電子光學(xué)的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其 電子光學(xué)前身為LEO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋）和Zeiss。積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗，電子光學(xué)成像技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個里程碑：

    -與AEG公司合作實現(xiàn)了透射電子顯微鏡的商業(yè)化（1949）
    -陸續(xù)推出的EM9型電子顯微鏡是世界上*具有自動曝光控制的電磁式
    -透射電子顯微鏡TEM（1956）
    -推出EM902型配用Castaing-Henry過濾器商用電子顯微鏡，用戶利用
    -該種新產(chǎn)品能夠得到高分辨率元素分布圖片（1984）
    -配用靜電電磁物鏡（Gemini技術(shù)）的場發(fā)射掃描電子顯微鏡DSM982
    -Gemini投放市場（1993）
    -推出具有Koehler照明的200KV場發(fā)射透射電鏡（2003）
    -推出具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡（2003）

    CARL ZEISS其前瞻性和完善的設(shè)計，融合歐洲至上的制造工藝， 造就了該品牌在光電子領(lǐng)域的地位。自成立至今，一直延續(xù)不 斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)，公司擁有廣泛的專有技術(shù)，隨著離子束技術(shù)和基于電子束的 分析技術(shù)的加入，可為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡（FIB and SEM）、透射電子顯微鏡等全系列解決方案。其產(chǎn)品的高性能、 高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到世界范圍內(nèi)廣大用戶的信賴與認(rèn)可。

      作為一家電子光學(xué)產(chǎn)品提供商，我們將為您提供完善的納米技術(shù)解決方案，并且以專業(yè)化的手段讓您的投資物有所值。無論您是企業(yè)還是科研機(jī)構(gòu)，卡爾 蔡司在高質(zhì)量電子光學(xué)系統(tǒng)方面優(yōu)良的傳統(tǒng)都會為您的業(yè)績做出積極的貢獻(xiàn)。

蔡司場發(fā)射掃描電鏡【核心技術(shù)】
        蔡司公司推出的Sigma 500場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計，分辨率超過0.8nm，為您提供分辨率和分析性能科研平臺。Sigma500專注于的EDS幾何學(xué)設(shè)計使您可以獲取*的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會比以往更快、更多的獲取數(shù)據(jù)。多種探測器的選擇使Sigma500可以的匹配您的應(yīng)用程序：您可以獲取微小粒子、表面、納米結(jié)構(gòu)、薄膜、涂層和多層的圖像信息。

【技術(shù)參數(shù)】

分辨率：0.8nm@30kV STEM 

                 0.8nm @15 kV   

                 1.4 nm @1kV

放大倍數(shù)：10-1,000,000×

加速電壓：調(diào)整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實現(xiàn)）

探針電流： 3pA～20nA（100nA選配）  穩(wěn)定性優(yōu)于 0.2%/h

低真空范圍：2-133Pa（Sigma 500VP可用）

樣品室： 358 mm（φ），270.5 mm（h）

樣品臺：5軸優(yōu)中心全自動
               
                 X＝130mm
                 Y＝130mm
                 Z＝50mm
                 T＝-4°－70°
                 R＝360°

系統(tǒng)控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng)，可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制

存儲分辨率：32k x 24k pixels

【產(chǎn)品應(yīng)用】   
        掃描電鏡廣泛用于材料科學(xué)（金屬材料、非金屬材料、納米材料）、冶金、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、半導(dǎo)體材料與器件、地質(zhì)勘探、病蟲害的防治、災(zāi)害（火災(zāi)、失效分析）鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業(yè)生產(chǎn)中的產(chǎn)品質(zhì)量鑒定及生產(chǎn)工藝控制等。在材料科學(xué)、金屬材料、陶瓷材料半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域，進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體/晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。