ibidi二氧化碳?xì)怏w孵化系統(tǒng) 現(xiàn)貨
ibidi二氧化碳?xì)怏w孵化系統(tǒng) 現(xiàn)貨
應(yīng)用領(lǐng)域
- 需要在顯微鏡下培養(yǎng)箱條件的活細(xì)胞成像,例如:
- 趨化性
- 血管生成
- 細(xì)胞遷移,增殖,傷口愈合
- 流下細(xì)胞培養(yǎng) - 成像格外重視穩(wěn)定性的應(yīng)用,例如:
- 全內(nèi)反射熒光 - 共聚焦顯微鏡 - 厭氧條件或氧化應(yīng)激
技術(shù)特點(diǎn)
- 可靠的O 2和CO 2氣體培養(yǎng)
- 主動(dòng)快速加濕-無(wú)蒸發(fā)
- 使用壓縮空氣產(chǎn)生氣流-無(wú)振動(dòng)
- 提供可選的氣壓發(fā)生器(用于無(wú)法獲得壓縮空氣的情況)
ibidi氣體培養(yǎng)系統(tǒng)為ibidi加熱系統(tǒng)等臺(tái)式培養(yǎng)箱提供潮濕和富含CO 2的空氣。氣體混合物不斷通過(guò)臺(tái)頂培養(yǎng)箱沖洗,以確保大的濕度和的pH值(用于CO 2緩沖液)。
由于氧氣耗竭,具有活細(xì)胞(綠色)和凋亡中心(紅色)的乳腺癌細(xì)胞的球狀體。
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請(qǐng)?jiān)诖颂幷业接嘘P(guān)活細(xì)胞成像測(cè)定的計(jì)劃,進(jìn)行和數(shù)據(jù)分析的更多詳細(xì)信息。
在此處下載完整的“活細(xì)胞成像”應(yīng)用指南,以PDF格式。
ibidi的濕度控制
細(xì)胞對(duì)培養(yǎng)基成分(例如鹽和營(yíng)養(yǎng)素)的變化非常敏感地做出反應(yīng)。來(lái)自細(xì)胞培養(yǎng)容器的任何蒸發(fā)都會(huì)以不確定的方式增加培養(yǎng)基中的物質(zhì)濃度。為了創(chuàng)建可重現(xiàn)的實(shí)驗(yàn)條件,應(yīng)避免在活細(xì)胞成像實(shí)驗(yàn)過(guò)程中因細(xì)胞濕度過(guò)低而從細(xì)胞培養(yǎng)容器中蒸發(fā)。
ibidi濕度控制可確保ibidi Stage Top孵化器內(nèi)部保持恒定且非常高的相對(duì)濕度(RH),與標(biāo)準(zhǔn)細(xì)胞培養(yǎng)孵化器的條件相同。這項(xiàng)*且受保護(hù)的技術(shù)可以在混合氣體進(jìn)入Stage Top培養(yǎng)箱之前以快速可靠的方式主動(dòng)對(duì)其進(jìn)行加濕。
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是什么讓ibidi濕度控制產(chǎn)品與眾不同?
ibidi氣體培養(yǎng)系統(tǒng)的組件
ibidi氣體混合器,用于CO 2和O 2
- 可靠的氣體培養(yǎng)
- 主動(dòng)而快速的加濕而不會(huì)蒸發(fā)(正在申請(qǐng)的技術(shù))
- 適用于各種實(shí)驗(yàn)條件(例如pH或缺氧)
- 與ibidi供暖系統(tǒng)*兼容
- 使用壓縮空氣產(chǎn)生氣流-無(wú)振動(dòng)
- 提供可選的氣壓發(fā)生器(用于無(wú)法獲得壓縮空氣的情況)
加濕柱
- 加濕流出的CO 2 / O 2 /空氣混合物以減少樣品蒸發(fā)
- 隨附的ibidi加熱系統(tǒng)內(nèi)部的主動(dòng)濕度控制
ibidi加熱系統(tǒng)
ibidi氣體培養(yǎng)系統(tǒng)將您的ibidi加熱系統(tǒng)升級(jí)為完整的臺(tái)式培養(yǎng)箱。
各種環(huán)境中的氧氣條件
位置/組織 | 氧分壓p(O 2) | 細(xì)胞培養(yǎng)氣體混合物中的相應(yīng)O 2(%) |
靈感的空氣 | 21 kPa(= 160毫米汞柱) | 21% |
肺泡 | 14 kPa(= 104毫米汞柱) | 14% |
動(dòng)脈血 | 14 kPa(= 104毫米汞柱) | 14% |
靜脈血 | 5 kPa(= 40毫米汞柱) | 5% |
間隙液 | 5 kPa(= 40毫米汞柱) | 5% |
健康組織 | 2–3 kPa(= 15-23毫米汞柱) | 2–3% |
腫瘤無(wú)血管 | |
外 | 1 kPa(= 7.5毫米汞柱) | 1% |
中央 | 0 kPa(= 0毫米汞柱) | 0% |
常氧條件 | 2-11 kPa(= 15-82毫米汞柱) | 2–11% |
缺氧情況 | 0–1 kPa(= 0–7.5毫米汞柱) | 0–1% |
細(xì)胞培養(yǎng)培養(yǎng)箱(5%CO 2) | 20 kPa(= 150毫米汞柱) | 20% |
ibidi加熱和氣體培養(yǎng)系統(tǒng),CO 2和O 2控制概述
供氣(輸入)
規(guī)格:
供氣(輸入) |
壓縮空氣 | 1 bar / 14.5 psi (0.8–1.2 bar / 11.6–17.4 psi) |
一氧化碳2 | 1 bar / 14.5 psi (0.8–1.2 bar / 11.6–17.4 psi) |
N2 | 1 bar / 14.5 psi (0.8–1.2 bar / 11.6–17.4 psi) |
用于所有氣體的管道(系統(tǒng)隨附) | PUR / PUN軟管 4毫米內(nèi)徑 6毫米外徑 1毫米壁厚 |
伊比迪氣體混合器
規(guī)格:
CO 2控制 | |
CO 2控制范圍 | 0%–15% |
解析度 | 0.1% |
| |
O 2控制 | (僅適用于CO 2和O 2的 ibidi氣體培養(yǎng)系統(tǒng)) |
O 2控制范圍 | 1%–21%(低于1%的設(shè)置精度較低,ibidi加熱室中的典型小值為0.5%O 2) |
解析度 | 0.1% |
| |
氣體流量 | |
控制范圍 | 0–20升/小時(shí) |
加濕柱
規(guī)格:
濕度控制 |
控制范圍 | 20%–99%(相對(duì)濕度) |
解析度 | 0.1% |
大音量 | 130毫升超純水 |
小體積 | 50毫升超純水 |
ibidi加熱系統(tǒng)
ibidi氣體培養(yǎng)系統(tǒng)兼容:
- ibidi加熱系統(tǒng),通用型
- ibidi加熱系統(tǒng),多孔板
注:楊清辰發(fā)布