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等離子體清洗技術(shù)在航空制造領(lǐng)域的四大優(yōu)勢(shì)!

閱讀:886        發(fā)布時(shí)間:2020-10-10

文章出自公眾號(hào):航空制造網(wǎng)  作者賈彩霞等

等離子體清洗技術(shù)起源于20 世紀(jì)初,推動(dòng)了半導(dǎo)體和光電產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展,現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于精密機(jī)械、汽車(chē)制造、航空航天以及污染防治等眾多高科技領(lǐng)域。等離子體清洗技術(shù)的關(guān)鍵是低溫等離子體的應(yīng)用,它主要依賴(lài)于高溫、高頻、高能等外界條件產(chǎn)生,是一種電中性、高能量、全部或部分離子化的氣態(tài)物質(zhì)。低溫等離子體的能量約為幾十電子伏特,其中所包含的離子、電子、自由基等活性粒子以及紫外線(xiàn)等輻射線(xiàn)很容易與固體表面的污染物分子發(fā)生反應(yīng)而使其脫離,進(jìn)而可起到清洗的作用。同時(shí)由于低溫等離子體的能量遠(yuǎn)低于高能射線(xiàn),因此此技術(shù)只涉及材料表面,對(duì)材料基體性能不產(chǎn)生影響。

等離子體清洗是一種干式工藝,由于采用電能催化反應(yīng),可以提供一個(gè)低溫環(huán)境,同時(shí)排除了濕式化學(xué)清洗所產(chǎn)生的危險(xiǎn)和廢液,安全、可靠、環(huán)保。簡(jiǎn)而言之,等離子體清洗技術(shù)結(jié)合了等離子體物理、等離子體化學(xué)和氣固兩相界面反應(yīng),可以有效清除殘留在材料表面的有機(jī)污染物,并保證材料的表面及本體特性不受影響,目前被考慮為傳統(tǒng)濕法清洗的主要替代技術(shù)。

更重要的是,等離子體清洗技術(shù)不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,對(duì)半導(dǎo)體、金屬和大多數(shù)高分子材料均有很好的處理效果,并且能夠?qū)崿F(xiàn)整體、局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。此工藝容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化與數(shù)字化流程,可裝配高精度的控制裝置控制時(shí)間,具備記憶功能等。正是由于等離子體清洗工藝擁有操作簡(jiǎn)單、精密可控等顯著優(yōu)勢(shì),目前已在電子電氣、材料表面改性與活化等多個(gè)行業(yè)普遍應(yīng)用。同時(shí)可以預(yù)見(jiàn),這種*的技術(shù)也將被復(fù)合材料領(lǐng)域所認(rèn)可并廣泛采用。

 一、等離子體清洗技術(shù)概述

1.1 機(jī)理分析
等離子體主要是通過(guò)氣體放電產(chǎn)生,其中包含電子、離子、自由基以及紫外線(xiàn)等高能量物質(zhì),具有活化材料表面的作用。例如,電子質(zhì)量小、移動(dòng)速度快,可以先一步到達(dá)材料表面并使其帶有負(fù)電荷,同時(shí)對(duì)材料表面產(chǎn)生撞擊作用,可促使表面吸附的氣體分子解吸或分解,也有利于引發(fā)化學(xué)反應(yīng);材料表面帶有負(fù)電荷時(shí),帶正電荷的離子會(huì)加速向其沖擊,所產(chǎn)生的濺射作用會(huì)將表面附著的顆粒性物質(zhì)除去;等離子體中自由基的存在對(duì)清洗作用具有非常重要的意義,由于自由基易與物體表面發(fā)生化學(xué)連鎖反應(yīng),產(chǎn)生新的自由基或進(jìn)一步分解,后可能會(huì)分解成揮發(fā)性的小分子;而紫外線(xiàn)具有很強(qiáng)的光能和穿透能力,可透過(guò)材料表面深達(dá)數(shù)微米而產(chǎn)生作用,使表面附著物質(zhì)的分子鍵斷裂分解。

圖1 簡(jiǎn)單描述了等離子體清洗的作用原理。主要是通過(guò)等離子體作用于材料表面使其產(chǎn)生一系列的物理、化學(xué)變化,利用其中所包含的活性粒子和高能射線(xiàn),與表面有機(jī)污染物分子發(fā)生反應(yīng)、碰撞形成小分子揮發(fā)性物質(zhì),從表面移除,實(shí)現(xiàn)清潔效果。可見(jiàn),等離子體清洗技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、高效節(jié)能、安全環(huán)保等顯著優(yōu)點(diǎn)。

1.2 清洗類(lèi)型

根據(jù)反應(yīng)類(lèi)型不同,等離子體清洗技術(shù)可分為兩類(lèi):等離子體物理清洗,即借助活性粒子和高能射線(xiàn)轟擊而使污染物脫離;等離子體化學(xué)清洗,即通過(guò)活性粒子與雜質(zhì)分子反應(yīng)而使污染物揮發(fā)脫離。

(1)激發(fā)頻率對(duì)等離子體的清洗類(lèi)型具有一定影響。例如,超聲等離子體(激發(fā)頻率,40kHz)發(fā)生的反應(yīng)多為物理反應(yīng);微波等離子體(激發(fā)頻率,2.45GHz)發(fā)生的反應(yīng)多為化學(xué)反應(yīng);而射頻等離子體(激發(fā)頻率,13.56MHz)則涉及到物理、化學(xué)雙重反應(yīng)類(lèi)型。

(2)工作氣體種類(lèi)對(duì)等離子體清洗類(lèi)型也具有一定影響。例如,惰性氣體Ar2、N2 等被激發(fā)產(chǎn)生的等離子體主要用于物理清洗,借助轟擊作用使材料表面清潔;而反應(yīng)性氣體O2、H2 等被激發(fā)產(chǎn)生的等離子體則主要用于化學(xué)清洗,借助活潑自由基與污染物(多為碳?xì)浠衔铮┌l(fā)生化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生一氧化碳、二氧化碳、水等小分子,從材料表面移除。

(3)等離子體清洗類(lèi)型對(duì)清洗效果具有一定的影響。等離子體物理清洗可使材料表面的粗糙度增加,有助于提高材料表面的附著力;等離子體化學(xué)清洗可以顯著增加材料表面的含氧、含氮以及其他類(lèi)型的活性基團(tuán),有助于改善材料的表面浸潤(rùn)性。

1.3 效果與特點(diǎn)
與傳統(tǒng)的溶劑清洗不同,等離子體是依靠其中所包含高能物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到清洗材料表面的目的,清洗效果*,是一種剝離式清洗。其清洗優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:

(1)清洗后的材料表面基本沒(méi)有殘留物,并且可以通過(guò)選擇、搭配不同的等離子體清洗類(lèi)型,產(chǎn)生不同的清洗效果,滿(mǎn)足后續(xù)處理工藝對(duì)材料表面特性的多種需求;

(2)由于等離子體的方向性不強(qiáng),因此方便清洗帶有凹陷、空洞、褶皺等復(fù)雜結(jié)構(gòu)的物件,適用性較強(qiáng);

(3)可處理多種基材,對(duì)待清洗物件的要求較低,因此特別適合清洗不耐熱和溶劑的基體材料;

(4)清洗過(guò)后無(wú)需干燥或其他工序,無(wú)廢液產(chǎn)生,同時(shí)其工作氣體排放無(wú)毒害,安全環(huán)保;

(5)操作簡(jiǎn)便、易控、快捷,對(duì)真空度要求不高或可直接采用大氣壓等離子體清洗工藝,同時(shí)此工藝避免了大量溶劑的使用,因此成本較低。

二 等離子體清洗設(shè)備及工藝

2.1 主要設(shè)備

 

用于等離子體清洗的典型設(shè)備為低壓等離子體清洗機(jī),如圖2 所示。由于等離子體的產(chǎn)生需要在低壓條件下進(jìn)行,需要真空設(shè)備和密閉系統(tǒng),設(shè)備成本較高,且操作空間和待清洗物件尺寸容易受到限制,不便于大規(guī)模工業(yè)應(yīng)用。因此近年來(lái)常壓等離子體及其清洗技術(shù)的發(fā)展受到了廣泛關(guān)注。圖3 所示為常壓射流等離子體噴槍?zhuān)且?/span>種電容耦合射頻放電裝置,其等離子特性與輝光放電相似,用于清洗材料表面時(shí)可以根據(jù)被清洗污染物的特點(diǎn)選擇工作氣體。 

另有一種常壓空氣介質(zhì)阻擋放電等離子體清洗設(shè)備,可以在常壓條件下對(duì)連續(xù)纖維、織物及其他大型片材產(chǎn)生良好的表面清洗效果,如圖4 所示。介質(zhì)阻擋放電(DBD)可產(chǎn)生宏觀均勻、穩(wěn)定的等離子體,放電強(qiáng)度相對(duì)較大,處理效率高。

 

2.2 工藝參數(shù)
在等離子體清洗工藝當(dāng)中,影響清洗效率的參數(shù)主要有以下幾個(gè)方面:

(1)放電氣壓:對(duì)于低壓等離子體,放電氣壓增加,等離子體密度越高,電子溫度隨之降低。而等離子體的清洗效果取決于其密度和電子溫度兩個(gè)方面,如密度越高清洗速率越快、電子溫度越高清洗效果越好。因此,放電氣壓的選擇對(duì)低壓等離子體清洗工藝至關(guān)重要。

(2)氣體種類(lèi):待處理物件的基材及其表面污染物具有多樣性,而不同氣體放電所產(chǎn)生的等離子體清洗速度和清洗效果又相差甚遠(yuǎn)。因此應(yīng)該有針對(duì)性地選擇等離子體的工作氣體,如可選用氧氣等離子體去除物體表面的的油脂污垢,選用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層。

(3)放電功率:放電功率增大,可以增加等離子體的密度和活性粒子能量,因而提高清洗效果。例如,氧氣等離子體的密度受放電功率的影響較大。

(4)暴露時(shí)間:待清洗材料在等離子體中的暴露時(shí)間對(duì)其表面清洗效果及等離子體工作效率有很大影響。暴露時(shí)間越長(zhǎng)清洗效果相對(duì)越好,但工作效率降低。并且,過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的清洗可能會(huì)對(duì)材料表面產(chǎn)生損傷。

(5)傳動(dòng)速度:對(duì)于常壓等離子體清洗工藝,處理大物件時(shí)會(huì)涉及連續(xù)傳動(dòng)問(wèn)題。因此待清洗物件與電極的相對(duì)移動(dòng)速度越慢,處理效果越好,但速度過(guò)慢一方面影響工作效率,另一方面也可能造成處理時(shí)間過(guò)長(zhǎng)產(chǎn)生材料表面損傷。

(6)其他:等離子體清洗工藝中的氣體分配、氣體流量、電極設(shè)置等參數(shù)也會(huì)影響清洗效果。因此需要根據(jù)實(shí)際情況和清洗要求設(shè)定具體的、適合的工藝參數(shù)。 

三 在復(fù)合材料領(lǐng)域中的應(yīng)用分析

自等離子體清洗技術(shù)問(wèn)世以來(lái),其應(yīng)用便隨著電子等工業(yè)的快速發(fā)展而逐漸增多。目前,等離子體清洗已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與光電工業(yè),并在汽車(chē)、航空航天、醫(yī)學(xué)、裝飾等多個(gè)技術(shù)領(lǐng)域得到推廣應(yīng)用。近年來(lái),等離子體清洗技術(shù)在聚合物表面活化、電子元器件制造、塑料膠接處理、提高生物相容性、防止生物污染、微波管制造、精密機(jī)械零件清洗等方面應(yīng)用較多。下面著重討論復(fù)合材料領(lǐng)域中等離子體清洗工藝的應(yīng)用前景。

3.1 提高復(fù)合材料表面粘接性能

碳纖、芳綸等連續(xù)纖維具有質(zhì)輕高強(qiáng)、熱穩(wěn)定性好、抗疲勞性能優(yōu)異等顯著特點(diǎn),用于增強(qiáng)熱固性、熱塑性樹(shù)脂基復(fù)合材料所得制成品已被廣泛應(yīng)用于飛行器、武器裝備、汽車(chē)、體育、電器等多個(gè)領(lǐng)域。但是商業(yè)化的纖維材料表面通常會(huì)存在一層有機(jī)涂層,在復(fù)合材料制備

過(guò)程中將會(huì)成為弱界面層而嚴(yán)重影響到樹(shù)脂與纖維之間的界面粘結(jié)作用。因此,在制備復(fù)合材料之前,需要借助一定的處理手段將其去除。

采用等離子體清洗技術(shù),可以有效避免化學(xué)溶劑對(duì)材料本體性能的損傷,在清洗材料表面的同時(shí)能夠引入多種活性官能團(tuán),并增大表面粗糙程度,改善纖維表面自由能,有效提高樹(shù)脂與纖維兩相界面之間的粘結(jié)作用,提高復(fù)合材料的綜合性能。圖5 所示為芳綸纖維經(jīng)溶劑清洗和等離子體清洗之后增強(qiáng)熱塑性聚芳醚砜酮樹(shù)脂的層間剪切強(qiáng)度對(duì)比,表明在各自較佳條件下等離子體清洗對(duì)復(fù)合材料界面性能的提高作用更為顯著。

3.2 提高復(fù)合材料制造工藝性能
復(fù)合材料液體模塑成型技術(shù)(LCM)主要有樹(shù)脂傳遞模塑(RTM)、真空輔助樹(shù)脂傳遞模塑(VARTM)、真空輔助樹(shù)脂注射(VARI)和樹(shù)脂膜滲透(RFI)等成型工藝。這類(lèi)工藝的共同特點(diǎn)是將纖維預(yù)成型體放入模具腔體內(nèi),再在壓力作用下注入液態(tài)樹(shù)脂并使其充分浸漬纖維,再經(jīng)固化、脫模等工序得到所需制品,具有低投入、高效率、高品質(zhì)等優(yōu)點(diǎn)。但是需要解決的問(wèn)題是,LCM技術(shù)多存在樹(shù)脂對(duì)纖維浸漬不理想,制品存在內(nèi)部空隙和表面干斑等現(xiàn)象。由此可見(jiàn),樹(shù)脂對(duì)纖維表面的浸潤(rùn)性能會(huì)直接影響LCM 成型工藝過(guò)程及其產(chǎn)品性能。因此,可以考慮通過(guò)采用等離子體清洗技術(shù)改善纖維表面的物理和化學(xué)性能,提高預(yù)成型體中纖維的表面自由能,使樹(shù)脂在同等工藝條件下(壓力場(chǎng)、溫度場(chǎng)等)能夠更加充分地浸漬纖維表面,提高浸漬均勻性,改善復(fù)合材料液體成型的工藝性能。

 

3.3 提高復(fù)合材料表面涂裝性能
復(fù)合材料的成型過(guò)程需采用脫模劑,以保證其固化成型后能夠有效地與模具分離,然而脫模劑的使用不可避免地會(huì)使復(fù)合材料貼膜面殘留多余的脫模劑,造成待涂裝表面的污染現(xiàn)象,產(chǎn)生弱界面層,使涂裝后的涂層極易脫落。傳統(tǒng)的清洗方式為采用丙酮等有機(jī)溶劑對(duì)表面進(jìn)行擦拭或者采用打磨后清洗的方式,以除去殘留在復(fù)合材料制件表面的脫模劑。然而,采用上述兩種方法,不僅引入了有機(jī)溶劑的使用,而且由于打磨過(guò)程會(huì)造成大量粉塵污染,對(duì)環(huán)境造成嚴(yán)重影響并且危害操作人員的人身安全。而通過(guò)綠色環(huán)保的等離子體技術(shù)清洗后,復(fù)合材料待涂裝面獲得較佳可涂裝狀態(tài),涂裝可靠性提高,可以有效避免涂層脫落和缺陷等問(wèn)題,涂裝后表面平整、連續(xù)、無(wú)流痕及氣孔等缺陷,涂層附著力較常規(guī)清洗有明顯提高,通過(guò)GB/T 9286 試驗(yàn)結(jié)果分級(jí)1 級(jí),滿(mǎn)足工程應(yīng)用標(biāo)準(zhǔn)。

3.4 提高復(fù)合材料多個(gè)制件間膠接性能
對(duì)于某些應(yīng)用場(chǎng)合,需要將若干復(fù)合材料制件通過(guò)膠接過(guò)程連接成整體,在此過(guò)程中,如果復(fù)合材料表面存在污染,較為光滑或呈化學(xué)惰性,則不易通過(guò)涂膠的方法實(shí)現(xiàn)復(fù)合材料制件間的膠接工序。傳統(tǒng)的方式是采用物理打磨方法使復(fù)合材料制件的膠接面粗糙度增加,進(jìn)而提高復(fù)合材料制件間的膠接性能。但此方法在產(chǎn)生粉塵污染環(huán)境的同時(shí),不易達(dá)到均勻增加制件表面粗糙度的目的,易導(dǎo)致復(fù)合材料制件表面發(fā)生變形、破壞進(jìn)而影響制件膠接面的性能。因此可以考慮采用簡(jiǎn)單易控的等離子體技術(shù),有效地清潔復(fù)合材料制件表面污染物,并同時(shí)改善其表面物理化學(xué)性能,終獲得良好的膠接性能。

結(jié)束語(yǔ)

等離子體清洗技術(shù)在復(fù)合材料領(lǐng)域中的應(yīng)用,不論是用于改善復(fù)合材料的界面性能,提高液體成型工藝中樹(shù)脂對(duì)纖維表面的潤(rùn)濕性能,還是用于清除制件表面污染層以提高涂裝性能,或是改善多個(gè)制件之間的膠接性能,其可靠性大多是依賴(lài)于低溫等離子體對(duì)材料表面物理以及化學(xué)性能的改善作用,去除弱界面層,或是增加粗糙度、提高化學(xué)活性,進(jìn)而增強(qiáng)兩個(gè)表面之間的浸潤(rùn)與粘結(jié)性能。

隨著低溫等離子體技術(shù)的日益成熟,以及清洗設(shè)備尤其是常壓條件下在線(xiàn)連續(xù)等離子體裝置的開(kāi)發(fā),清洗成本不斷降低,清洗效率可進(jìn)一步提高;等離子體清洗技術(shù)本身具有便于處理各種材料、綠色環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。因此,在精細(xì)化生產(chǎn)意識(shí)逐漸提高的同時(shí),*的清洗技術(shù)在復(fù)合材料領(lǐng)域中的應(yīng)用必然會(huì)更加普及。

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