光學微電子凈化工程

光學微電子凈化工程之定義為將一定空間范圍內(nèi)之空氣中的微塵粒子、有害空氣、細菌等之污染物排除，并將室內(nèi)之溫濕度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音震動及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)，而所給于特別設計之密閉空間。

光學微電子凈化工程亦名無塵室或清凈室，目前已是半導體、精密制造、液晶制造、光學制造、線路板制造和生物化學、醫(yī)藥、食品制造等行業(yè)*的重要設施。近幾年來，由于技術之創(chuàng)新發(fā)展，對于產(chǎn)品的高精密度化、細小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為世界各國在科技發(fā)展上極為重視的項目

1、 潔凈生產(chǎn)區(qū)

2、 潔凈輔助間（包括人員凈化用房、物料凈化用室和部分生活用室等）

3、 管理區(qū)（包括辦公、值班、管理和休息等）

4、 設備區(qū)（包括凈化空調(diào)系統(tǒng)應用、電氣用房、高純水和高純氣用房、冷熱設備用房）

光學微電子凈化工程凈化原理

氣流→初效凈化→空調(diào)→中效凈化→風機送風→管道→凈化風口→吹入房間→帶走塵埃細菌等顆粒 → 回風百葉窗→初效凈化 重復以上過程，即可達到凈化目的。

光學微電子凈化工程凈化參數(shù)

換氣次數(shù)：100000級≥15次；10000級≥20次；1000≥30次。壓差：主車間對相鄰房間≥5Pa

平均風速：10級、100級0.3－0.5m/s；溫度 冬季＞16℃；夏季 ＜26℃；波動±2℃。

溫度45－65％；GMP粉劑車間濕度在50％左右為宜；電子車間濕度略高以免產(chǎn)生靜電。

噪聲≤65dB（A）；新風補充量是總送風量的10％－30％；照度300LX。

光學微電子行業(yè)凈化工程設計方案分析之無塵車間的特點

A、無塵車間的潔凈度:

LCD制屏的簡略流程為：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷層散布隔墊物→組合→劃線和切割→LC注入→貼偏振片→制屏終檢。

在本設計里是指末端工藝的一些無塵車間，其凈化潔凈度一般為千級或萬級或十萬級。背光屏類無塵車間主要是這類產(chǎn)品的沖壓車間、組裝等無塵車間，其潔凈度一般為萬級或十萬級。

B、室內(nèi)空氣參數(shù)要求 ：

(1)溫濕度要求：溫度一般為24+2℃，相對濕度為55+5%。

(2)新風量大。由于這類車間內(nèi)，人員比較多，可以根據(jù)以下數(shù)值應取下列的大值：非單向流潔凈室總送風量的10-30%;補償室內(nèi)排風和保持室內(nèi)正壓值所需的新鮮空氣量;保證室內(nèi)每人每小時的新鮮 空氣量≥40m3/h。

(3)送風量大。為了滿足潔凈室內(nèi)的潔凈度及熱濕平衡，需要較大的送風量，就300平方米的車間，吊頂高度為2.5米的，如果是萬級，送風量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送風量(換氣次數(shù)，是≥25次/h);如果是十萬級，送風量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送風量(換氣次數(shù)，是≥15次/h)。