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當(dāng)前位置:青島澳海源國(guó)際貿(mào)易有限公司>>Mitutoyo日本三豐>>Mitutoyo顯微鏡物鏡>> BD Plan Apo HR 50×Mitutoyo三豐明視場(chǎng)物鏡378-845-7
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)BD Plan Apo HR 50×
品 牌MITUTOYO/三豐
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地青島市
更新時(shí)間:2024-07-30 08:35:35瀏覽次數(shù):912次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)Mitutoyo三豐顯微鏡378-518 WIDE VMU-BDH
Mitutoyo日本三豐手動(dòng)轉(zhuǎn)塔378-707
Mitutoyo三豐調(diào)心電動(dòng)轉(zhuǎn)塔378-713DC
Mitutoyo三豐聚焦單元A B 378-705 378-706
供貨周期 | 現(xiàn)貨 | 規(guī)格 | BD Plan Apo HR 50× |
---|---|---|---|
貨號(hào) | 378-845-7 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),電子 |
主要用途 | 顯微鏡 |
Mitutoyo三豐明視場(chǎng)物鏡378-845-7
明暗視場(chǎng)用物鏡
BD Plan Apo /
BD Plan Apo HR
FS70 MF-U Hyper MF-U
BD Plan Apo HR
BD Plan Apo HR 50× 378-845-7 0.75 5.2 4 0.4 0.49 0.48 0.10×0.13 530
BD Plan Apo HR 100× 378-846-7 0.90 1.3 2 0.3 0.34 0.24 0.05×0.06 545
日本米思米misumi代購(gòu)
日本物太郎monotaro代購(gòu)
日本工業(yè)品代購(gòu)axel.as-1
日本工業(yè)測(cè)器askul代購(gòu)
日本tgk.co東京硝子器械代購(gòu)
NA=Numerical Aperture的略語(yǔ)
數(shù)值孔徑NA是決定物鏡分辨力、焦深、圖像亮度的重要數(shù)值。
數(shù)值孔徑NA通過(guò)下列公式來(lái)表示,其數(shù)值越大,就越能得到高分辨力、焦深淺的圖像
n是物鏡頂端與工件之間的媒介具有的屈光率,在空氣中n=1.0。是通過(guò)物鏡外側(cè)的光線與鏡頭中心(光軸)之間形成的角度
R=Resolving power的略語(yǔ)
能夠?qū)㈦x得很近的點(diǎn)或線區(qū)分開(kāi)來(lái)的小間隔叫做分辨力,表示解像度的極限。
分辨力(R)由數(shù)值孔徑NA和波長(zhǎng)(λ)來(lái)決定
W.D.=Working Distance的略語(yǔ)
是指對(duì)準(zhǔn)焦點(diǎn)時(shí)從試樣上表面到物鏡前端的距離
齊焦距離
是指對(duì)準(zhǔn)焦點(diǎn)時(shí),從試樣上表面到物鏡安裝位置的距離
無(wú)限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)
把使用物鏡和成像鏡頭成像的光學(xué)系統(tǒng)叫做無(wú)限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)
有限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)
單獨(dú)用物鏡成像于有限的位置上的光學(xué)系統(tǒng)叫做有限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)
f=focal length的略語(yǔ)
主點(diǎn)到焦點(diǎn)的距離。f1是物鏡的焦點(diǎn)距離,f2是成像鏡頭的焦距。由物鏡與成像鏡頭的焦距比決定倍率(無(wú)限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng))
焦點(diǎn)
光學(xué)系統(tǒng)中相對(duì)于無(wú)限遠(yuǎn)物點(diǎn)的共軛點(diǎn)。
物方空間中有無(wú)限遠(yuǎn)物點(diǎn)的焦點(diǎn)叫做像方焦點(diǎn)。像方空間中有無(wú)限遠(yuǎn)物點(diǎn)的焦點(diǎn)叫做物方焦點(diǎn)。
物方焦點(diǎn)也叫前聚焦點(diǎn),像方焦點(diǎn)也叫后聚焦點(diǎn)
焦深
緊湊、輕巧的相機(jī)觀察顯微鏡
適用于金屬、樹(shù)脂、印刷表面、微小運(yùn)動(dòng)物體等各種觀察對(duì)象。
·適用于使用YAG激光(近紅外、可見(jiàn)、近紫外、紫外)的微細(xì)加工※ ※不保證激光振蕩器配備系統(tǒng)的綜合性能和安全性。
半導(dǎo)體電路的切割、修整、修正、打標(biāo)、薄膜(絕緣膜)的去除和加工、液晶彩色濾光片等的修復(fù)(修正缺陷)等。
·適用于紅外光學(xué)系統(tǒng)※
硅類的內(nèi)部觀察、紅外光譜特征分析等?!硇杓t外光源和紅外攝像機(jī)等。
·反射照明光學(xué)系統(tǒng)標(biāo)配帶孔徑光闌遠(yuǎn)心照明
需要均勻照明的圖像處理??捎糜诔叽鐪y(cè)量、形狀檢查、定位等。
·VMU-LB和VMU-L4B強(qiáng)化了顯微鏡主體的剛性和綜合性能(與以往產(chǎn)品相比)
·除標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格外,還可按照需求設(shè)計(jì)制作雙相機(jī)、雙倍率(低倍率、高倍率)等產(chǎn)品
Mitutoyo三豐明視場(chǎng)物鏡378-845-7
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