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MSK-111A-ES自動疊片機(jī)是一款可應(yīng)用于鋰離子電池或固態(tài)電池極片疊片工藝的設(shè)備。該設(shè)備桌面式結(jié)構(gòu)設(shè)計,可以放置于手套箱內(nèi)使用;卷料隔離膜張力可調(diào),電機(jī)驅(qū)動...
氧化鋯磨球以純度 95%以上氧化鋯為主體,以氧化釔為穩(wěn)定劑,形成的穩(wěn)定的四方相結(jié)構(gòu),用于電子漿料、陶瓷粉末、磁性材料、電池原料、稀土材料、非金屬礦、顏料、油墨、...
MSK-SFM-VT8S 帶溫度測量粘度計采用高性能進(jìn)口微電腦芯片、進(jìn)口步進(jìn)電機(jī)等關(guān)鍵部件,具有液晶背光顯示、程序設(shè)定、自動控制、定時測量、自動掃描等功能;可測...
MSK-SFM-9-15L雙行星真空攪拌機(jī)(不含泵)干混、濕混版是集真空低速混合、高速分散為一體的高效攪拌設(shè)備,結(jié)合公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)運(yùn)動,實現(xiàn)物料的充分混合??蓱?yīng)用于...
MSK-SFM-9-60L-2型雙分散軸五槳真空行星攪拌機(jī)是集真空低速混合、高速分散為一體的高效攪拌設(shè)備,結(jié)合公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)運(yùn)動,實現(xiàn)物料的充分混合??蓱?yīng)用于各種溶...
MSK-111A-L 半自動疊片機(jī)是一款可應(yīng)用于鋰離子電池極片疊片工藝的設(shè)備。該設(shè)備采用隔離膜自動張力控制系統(tǒng),氣缸帶動隔膜左右移動實現(xiàn) Z 字形疊片,懸臂式的...
MSK-AFA-L800是一款800mm長的流延式涂覆機(jī),含真空吸盤和無油真空泵,配合微米級可調(diào)式刮刀可制作長的厚膜。具有*的自動推進(jìn)裝置,可以在180mm寬度...
MSK-SFM-1S 桌面式行星混料機(jī)MSK-SFM-1S是一款行星式球磨機(jī),轉(zhuǎn)盤上裝有四個混料罐,混料罐中心軸做行星運(yùn)動,罐中磨球在高速運(yùn)動中研磨和混合樣品。...
MSK-SFM-ALO是一款小型顎式破碎機(jī),其動顎和定顎均襯有剛玉襯板,破碎腔兩側(cè)有剛玉陶瓷板,大大提高了設(shè)備的耐磨性,且對物料無污染,同時動顎和定顎之間的間隙...
JB300-SH 數(shù)顯恒速電動攪拌機(jī)應(yīng)用于液體/液體的混合、乳化,液體/固體粉末的分散、漿化實驗領(lǐng)域。
MSK-PCV-300 是一款通過CE認(rèn)證的行星式真空離心混料機(jī),可以用于混合各種液體或粉末材料。樣品材料可以是納米粉,導(dǎo)電陶瓷,電池粉末或漿料,碳納米管,氧化...
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,...
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的最-簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。本機(jī)特別之處是在一個真空室內(nèi)安裝了三...
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的最-簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備,適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非...
VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,特別是一些氧化...
VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空...
VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認(rèn)證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型),基片最大尺寸2英寸,加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類型的靶材...
GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀是一款小型臺式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀,可以設(shè)定程序,精確控制溫度200ºC~1500ºC(或...
MSK-AFA-SD400狹縫擠出式涂布機(jī)是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對基材進(jìn)行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置slot die狹縫擠壓涂布模頭、精密計量...
MSK-DCP-S650平板涂覆機(jī)是一款狹縫擠出式流延平板涂覆設(shè)備,可應(yīng)用于對各種片狀基材進(jìn)行表面涂布工藝。該設(shè)備本著方便研究者使用,同時滿足涂布精度和一致性無...
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