產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
【國(guó)產(chǎn)激光在線氣體分析儀】?jī)x器介紹
GALAS 6激光在線氣體分析儀(國(guó)產(chǎn))采用半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy,簡(jiǎn)稱(chēng)TDLAS)測(cè)量氣體吸收強(qiáng)度,并根據(jù)Lamber-Beer定律,即氣體吸收的強(qiáng)度與其濃度成正比,計(jì)算出氣體的濃度。TDLAS作為一種分析氣體的新技術(shù),由于半導(dǎo)體激光光譜寬度遠(yuǎn)小于氣體吸收譜線的展寬,因此是一種高分辨率的光譜吸收技術(shù)。與非分散紅外(NDIR)的氣體分析儀相比,TDLAS技術(shù)不受H2O、CO2及粉塵的影響,測(cè)量更,分辨率更高,壽命更長(zhǎng)。
選型規(guī)則
型號(hào)分類(lèi)
性能特點(diǎn)
1.無(wú)氣體交叉干擾,特定組分氣體只在特定波長(zhǎng)下存在吸收譜,具有較強(qiáng)的氣體選擇性;
2.*的光路設(shè)計(jì),能有效消除現(xiàn)場(chǎng)振動(dòng)對(duì)光路的影響;
3.測(cè)量方式靈活,既可適應(yīng)于高達(dá)1000℃高溫下的原位測(cè)量,亦可配備旁路采樣系統(tǒng)對(duì)氣體分析監(jiān)測(cè);
4.光強(qiáng)補(bǔ)償算法,儀器在高粉塵、高顆粒物的工況條件下仍分析監(jiān)測(cè);
5.多種測(cè)量方式,直接吸收、1f、2f等,結(jié)合的譜圖分析方法,測(cè)量結(jié)果的靈敏度和線性范圍;
6.溫度、壓力補(bǔ)償,外部溫度、壓力輸入或內(nèi)置溫度、壓力傳感器,結(jié)合優(yōu)化的補(bǔ)償算法,提高測(cè)量性;
7.采用分布式微處理技術(shù),分析速度快,響應(yīng)時(shí)間≤1s。
GALAS 6-S、GALAS 6-L | GALAS 6T-S、GALAS 6T-L | GALAS 6T-P2000、GALAS 6V-P2000 | GALAS 6V-P300 |
光纖分布的多路技術(shù),可同時(shí)多點(diǎn)監(jiān)測(cè) | 對(duì)射式設(shè)計(jì),主機(jī)集成在發(fā)射端,滿足大多數(shù)應(yīng)用場(chǎng)合 | 反射式設(shè)計(jì),整機(jī)一體化,安裝調(diào)試方便 | 反射式設(shè)計(jì),高度集成的分析儀及可選配的二次儀表,更小型、高性價(jià)比,安裝調(diào)試更方便 |
*的滲透管,防高粉塵,可測(cè)量含有高達(dá)50g/m3粉塵氣體 | |||
內(nèi)置標(biāo)定單元,自動(dòng)進(jìn)行譜峰鎖定以及儀器校準(zhǔn) | 無(wú)易損耗材部件,運(yùn)行成本低 | 探桿可耐400℃高溫,適合脫硝等高溫高粉塵場(chǎng)合 | 主要用于常溫氣體測(cè)量,氣體溫度小于60℃ |
配有防護(hù)套管,保護(hù)探桿在惡劣的環(huán)境下正常工作,延長(zhǎng)探桿壽命 |
應(yīng)用領(lǐng)域
應(yīng)用行業(yè) | 測(cè)量對(duì)象 |
電解鋁廠等 | HF,HCL,NH3尾氣排放監(jiān)測(cè) |
燃煤電廠 | 煙氣脫硝工藝的NH3逃逸監(jiān)測(cè) |
鋼鐵行業(yè) | 轉(zhuǎn)爐,高爐,噴煤等CO,CO2,O2監(jiān)測(cè) |
石化,化工行業(yè) | 腐蝕性氣體HF,H2S和微量H2O監(jiān)測(cè) |
垃圾焚燒 | HF,HCL,CO,CO2 |
垃圾填埋 | H2S,NH3 |
煙草加工 | CO,CO2 |
廢水處理 | H2S |
環(huán)境空氣 | H2S,NH3,CO,CO2監(jiān)測(cè) |
工業(yè)工藝流程 | H2O,CO2,O2監(jiān)測(cè) |
【國(guó)產(chǎn)激光在線氣體分析儀】技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | GALAS 6 | GALAS 6T | GALAS 6V |
常規(guī) | |||
測(cè)量方式 | 原位/旁路 | ||
系統(tǒng)組成 | 分析儀主機(jī) | 分析儀主機(jī) | 激光分析儀 |
技術(shù)指標(biāo) | |||
測(cè)量技術(shù) | TDLAS | ||
測(cè)量組分 | HF、HCL、O2、CO、CO2、H2O、O2、NH3、CH4等 | ||
測(cè)量度 | ±2 F.S.,±4 F.S.,±6%F.S. | ||
測(cè)量范圍 | 小量程(1) 量程(1) | ||
NH3 | 0~10ppm 0~5000ppm | ||
HF | 0~2ppm 0~2000ppm | ||
HCL | 0~10ppm 0~3000ppm | ||
CO/CO2 | 0~2000ppm 0~100vol% | ||
H2O | 0~10ppm 0~3000ppm | ||
O2 | 0~3vol% 0~100vol% | ||
防護(hù)等級(jí) | 主機(jī)IP20,發(fā)射、接收單元IP66 | IP65 | 激光分析儀IP66,二次儀表IP65 |
工作條件 | |||
電源 | 220VAC,50Hz | ||
吹掃氣 | 0.3~0.8MPa,15L/min | ||
分析儀工作溫度 | 0-95%RH,-10℃-50℃ | ||
光學(xué)端工作溫度 | 5-95%RH,-40℃-65℃不結(jié)露 | ||
氣體壓力 | 25~200kPa | ||
接口信號(hào) | |||
數(shù)字通訊接口 | RS485/以太網(wǎng) | ||
模擬量輸入 | 8路4-20mA | 4路4-20mA | 2路4-20mA |
模擬量輸出 | 8路4-20mA | 4路4-20mA | 2路4-20mA |
繼電器輸出 | 8路24V/1A | 5路24V/1A | 3路24V/1A |