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鶴壁市創(chuàng)新儀器儀表有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第7年

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X熒光多元素(五元素)分析儀

參   考   價(jià): 80000

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)KL6500

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地鶴壁市

更新時(shí)間:2024-09-10 15:14:18瀏覽次數(shù):1212次

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 1萬-2萬
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,石油,地礦,建材,冶金
鶴壁市創(chuàng)新儀器公司是一家生產(chǎn)X熒光多元素(五元素)分析儀的廠家,相關(guān)產(chǎn)品有:X熒光硫鈣鐵分析儀、X熒光鈣鐵分析儀、X熒光油品硫分析儀、X熒光測硫儀、X熒光硫鈣分析儀、X熒光硅鋁分析儀

鶴壁市創(chuàng)新儀器公司是一家生產(chǎn)X熒光多元素(五元素)分析儀的廠家,相關(guān)產(chǎn)品有:X熒光硫鈣鐵分析儀、X熒光鈣鐵分析儀、X熒光油品硫分析儀、X熒光測硫儀、X熒光硫鈣分析儀、X熒光硅鋁分析儀

KL6500型X熒光多元素分析儀


      KL6500型X熒光多元素分析儀是一種微機(jī)化的新型臺(tái)式分析儀器,專為水泥建材工業(yè)研究制造。它依據(jù)能量色散原理,采用環(huán)保型X光管激發(fā)、*的物理測量方法、分析技術(shù)和*工藝生產(chǎn)。它綜合了X熒光鈣鐵分析儀和硅鋁分析儀的功能,一次測量可分析出生料、熟料、水泥等物料中CaO、Fe2O3、SiO2、Al2O3四種元素成分,并自動(dòng)計(jì)算出KH,SM,IM三率值。和國外進(jìn)口大型X熒光光譜分析儀進(jìn)行分析對(duì)比,分析結(jié)果都在誤差范圍內(nèi)。且價(jià)格只有進(jìn)口大型X熒光光譜儀的近二十分之一,價(jià)廉物美。

 

      KL6500型X熒光多元素分析儀有九條工作曲線可利用,液晶大屏幕顯示,中文菜單提示操作,使用簡便;儀器采用一體化設(shè)計(jì),集成化程度高,可靠性好,維修方便,人為誤差?。徊捎么笕萘侩娮佑涗洷?,可翻閱2000多個(gè)含量分析數(shù)據(jù),又避免了打印耗材。不破壞樣品,樣品可以重復(fù)測量。不用任何化學(xué)試劑,無三廢排放,不含放射源,低耗電,符合環(huán)保、節(jié)能、輻射要求。

 

X熒光多元素分析儀 用途:

 

主要用于檢測生料、熟料、水泥、石灰石、粘土等中CaO%、Fe2O3%、SiO2%、Al2O3%;

在水泥工業(yè)中通過RS232串行通訊口直接與生料率值配料控制系統(tǒng)聯(lián)機(jī)。

 

X熒光多元素分析儀 技術(shù)指標(biāo)

1. 分析范圍:CaO、Fe2O3、SiO2、Al2O3:0.01%~100% ;

2. 分析寬度:CaO、Fe2O3、SiO2、Al2O3成分均為≤15%,通過標(biāo)定工作曲線選定工作范圍;

3. 分析精度:標(biāo)準(zhǔn)偏差SCaO≤0.10%;SFe2O3≤ 0.05%;SSiO2≤0.07%;SAl2O3≤0.07%;

4. 允許誤差:ΔCaO %≤0.25%;ΔFe2O3%≤0.10%;ΔSiO2%≤0.20% ;ΔAl2O3%≤0.20% ;

5. 分析時(shí)間:n * 180秒(n=1、2、3,通常取n =2);

6. 穩(wěn)定性:漂移ΔCaO %≤0.15%;ΔFe2O3%≤0.10%;ΔSiO2%≤0.10%; ΔAl2O3% ≤0.10% ;

7. 使用條件:供電AC200V~240V ,50Hz;整機(jī)功耗:≤30W ;環(huán)境溫度5~40℃;相對(duì)溫度≤85%(30℃);

8. 尺寸與重量:468mm * 368mm * 136mm , 13.8Kg 。

 

X熒光多元素(五元素)分析儀  鶴壁市創(chuàng)新儀器儀表有限公司

【相關(guān)文獻(xiàn)】1.石灰石為脫硫劑噴霧干燥法煙氣脫硫?qū)嶒?yàn)研究 [J] 王鳳東;  張衛(wèi)江2.濕法煙氣脫硫系統(tǒng)中脫硫劑石灰石及其溶解特性研究[C] 毛志偉; 王浩明;  孫禮明3.以石灰石和石灰為脫硫劑的鎂強(qiáng)化FGD過程對(duì)比研究 [J] 孫文壽;  譚天恩4.基于石灰石脫硫劑的鼓泡塔脫硫效率研究 [J] 賴?yán)似?.以石灰石為脫硫劑的濕法煙氣脫硫系統(tǒng)的熱力學(xué)分析 [J] 張立紅;  李玉平

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