holmarc HO-HAI-TFR-01SP 薄膜光譜反射儀是用于工業(yè)和研究的薄膜厚度分析的基本儀器。Holmarc的TFSR型號：HO-HAI-TFR-01SP能夠以高速和可重復(fù)性分析薄膜的厚度，復(fù)折射率和表面粗糙度。TFSR理論使用菲涅爾方程的復(fù)雜矩陣形式來實現(xiàn)反射率和透射率。反射光譜是Reflectometer的原理。

holmarc HO-HAI-TFR-01SP 薄膜光譜反射儀

薄膜光譜反射儀是用于工業(yè)和研究的薄膜厚度分析的基本儀器。Holmarc的TFSR型號：HO-HAI-TFR-01SP能夠以高速和可重復(fù)性分析薄膜的厚度，復(fù)折射率和表面粗糙度。TFSR理論使用菲涅爾方程的復(fù)雜矩陣形式來實現(xiàn)反射率和透射率。反射光譜是Reflectometer的原理。這是反射光束的強(qiáng)度（通常是單色的）與入射光束的強(qiáng)度之比。通常入射到樣品表面的光束依次從受到干擾的薄膜表面的頂部和底部反射，并通過計算機(jī)將光纖引導(dǎo)至連接到CCD的光譜儀上。

膜厚范圍	：	20納米-35微米
反射波長范圍	：	400 nm-850 nm
透過率/吸收率范圍	：	0-100％
光源	：	50W鎢鹵素石英燈
探測器	：	CCD線性陣列，3648像素
光譜儀	：	光譜CDS 215
NSF上    通常用于SiO 2的精度-66	：	±1海里
相同樣品的準(zhǔn)確度	：	±20納米
光功率	：	20瓦
光斑尺寸	：	1毫米
光纖	：	具有SMA光纖耦合器的多模雙叉光纖
參考樣品	：	拋光NSF-66和NBK-7
標(biāo)準(zhǔn)樣品	：	NSF-66基底上的    SiO 2薄膜
測量方式	：	曲線擬合/回歸算法，F(xiàn)FT，F(xiàn)FT +曲線擬合
色散公式	：	柯西，Sellmeiers和經(jīng)驗?zāi)Ｐ?/td>
EMA模型	：	線性EMA，布魯格曼，麥克斯韋·加內(nèi)特，洛倫茲-洛倫茲模型
材料庫	：	可擴(kuò)展材料用戶庫
PC接口	：	USB

特征
 

    分析單層和多層膜（多層膜的間接方法）

    光纖探頭，用于法向入射角下的反射率測量

    CCD線性陣列圖像傳感器，可同時測量每個波長的反射率

    用戶可擴(kuò)展材料庫

    數(shù)據(jù)可以另存為Excel或文本文件

    *的數(shù)學(xué)擬合算法

    基于FFT的厚度測量

    提取厚度和光學(xué)常數(shù)

    參數(shù)化模型

此款產(chǎn)品不用于醫(yī)療，不用于臨床使用，此產(chǎn)品僅用于科研使用。