holmarc LOE-03 表征光學(xué)材料Z掃描系統(tǒng)Z掃描技術(shù)是一種簡單且流行的實(shí)驗(yàn)技術(shù)，用于測量材料的強(qiáng)度相關(guān)非線性磁化率。Holmarc的Z掃描系統(tǒng)（型號：HO-ED-LOE-03）是z掃描技術(shù)的簡單實(shí)現(xiàn)，可用于表征光學(xué)材料。

Z掃描技術(shù)是一種簡單且流行的實(shí)驗(yàn)技術(shù)，用于測量材料的強(qiáng)度相關(guān)非線性磁化率。

Holmarc的Z掃描系統(tǒng)（型號：HO-ED-LOE-03）是z掃描技術(shù)的簡單實(shí)現(xiàn)，可用于表征光學(xué)材料。

實(shí)驗(yàn)范例

    測量材料的強(qiáng)度依賴性非線性磁化率

與z-掃描相關(guān)的兩個可測量量是非線性吸收和非線性折射。這些參數(shù)與三階非線性磁化率的虛部和實(shí)部相關(guān)，并提供有關(guān)材料特性的重要信息。

特征
 

    表征光學(xué)材料的非線性特性

    光譜響應(yīng)范圍為320-1100nm的光電探測器

    黑色陽極氧化機(jī)械零件

    光學(xué)面包板使系統(tǒng)靈活

    高精度光學(xué)

    用戶友好軟件

此款產(chǎn)品不用于醫(yī)療，不用于臨床使用，此產(chǎn)品僅用于科研使用。