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半導(dǎo)體CMP清洗12 英寸專用超聲波流量計

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更新時間:2024-08-02 10:38:38瀏覽次數(shù):632次

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產(chǎn)地類別 進(jìn)口 產(chǎn)品種類 超聲波
價格區(qū)間 5萬-10萬 介質(zhì)分類 氣體&液體
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子,制藥,電氣
半導(dǎo)體CMP清洗12 英寸專用超聲波流量計
CMP,即化學(xué)機械拋光,是一種通過化學(xué)和機械相結(jié)合的方式對硅片表面進(jìn)行精確研磨和拋光的技術(shù)。正是這一技術(shù)的硬件基礎(chǔ),它能夠?qū)崿F(xiàn)硅片表面的全局平坦化,為后續(xù)的工藝提供良好的基礎(chǔ)。CMP設(shè)備是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的關(guān)鍵工藝設(shè)備。

半導(dǎo)體CMP清洗12 英寸專用超聲波流量計

一、化學(xué)機械拋光(CMP)基本概念:

CMP,即化學(xué)機械拋光,是一種通過化學(xué)和機械相結(jié)合的方式對硅片表面進(jìn)行精確研磨和拋光的技術(shù)。正是這一技術(shù)的硬件基礎(chǔ),它能夠?qū)崿F(xiàn)硅片表面的全局平坦化,為后續(xù)的工藝提供良好的基礎(chǔ)。CMP設(shè)備是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的關(guān)鍵工藝設(shè)備。

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1、CMP 設(shè)備基本情況

1)CMP主要主要過程

CMP過程包括三個主要步驟:拋光、清洗和傳送。拋光過程中,拋光液中的化學(xué)成分與晶圓表面材料發(fā)生反應(yīng),形成一層可被機械移除的薄膜,隨后拋光墊通過機械作用去除這層薄膜,從而實現(xiàn)表面的平滑。

2)CMP設(shè)備的主要類型

CMP設(shè)備根據(jù)應(yīng)用端需求可分為8英寸、12英寸以及6/8英寸兼容設(shè)備。

3)CMP設(shè)備的主要應(yīng)用領(lǐng)域

主要用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,且半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈可分為晶圓材料制造、半導(dǎo)體設(shè)計、半導(dǎo)體制造、封裝測試四大環(huán)節(jié)。除半導(dǎo)體設(shè)計環(huán)節(jié)外,其他領(lǐng)域均有 CMP 設(shè)備應(yīng)用:

①晶圓材料制造環(huán)節(jié):在拋光環(huán)節(jié)需要應(yīng)用 CMP 設(shè)備得到平整的晶圓材料。





CMP設(shè)備拋光液控制專用超聲波流量計

CMP設(shè)備拋光液控制專用超聲波流量計$r$nCMP,即化學(xué)機械拋光,是

CMP研磨液控制專用超聲波流量計

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化學(xué)機械拋光(CMP)專用超聲波流量計

化學(xué)機械拋光(CMP)專用超聲波流量計$r$nCMP,即化學(xué)機械拋光,

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