納米氮化硅(Si3N4)與二硫化鉬MoS2復合材料

 MoS2單層是一種直接帶隙半導體材料，因其具有的光學、電輸運、力學等物理性質，引起了國內外研究人員的興趣。單層MoS2具有較高的光致熒光（Photoluminescence）量子效率以及較大的激子束縛能，使得在室溫下實現(xiàn)基于激子的光電子器件成為可能。單層MoS2激子的發(fā)光性質不取決于其能帶結構，還和載流子濃度有關。近期已有科研人員利用靜電摻雜、物理吸附、化學摻雜等手段改變MoS2的發(fā)光性質，但是遇到了摻雜不易調控、效率不高等問題。同時，其原子的厚度（~0.65nm）了光與激子的相互作用，使得單層MoS2的發(fā)光以及吸收性質較弱。

納米氮化硅(Si3N4)與二硫化鉬MoS2復合材料

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