WS2/Graphene二硫化鎢/石墨烯異質(zhì)結(jié)薄膜

西安齊岳生物科技有限公司是做二維材料的供應(yīng)商；2020年新研究出了一系列的異質(zhì)結(jié)材料：ReS2/hBN、ReSe2/hBN、SnS2/hBN、SnSe2/hBN、MX2/MX2/hBN/Graphene、MoS2/WS2、MoS2/WSe2、MoS2/MoSe2、WS2/WSe2、MoS2/WS2/MoS2/WS2、MoS2/hBN/Graphene異質(zhì)結(jié)等材料,(SiO2/Si基底、石英基底、PET基底、藍(lán)寶石基底可選)。

WS2/Graphene二硫化鎢/石墨烯異質(zhì)結(jié)薄膜

由兩種或多種二維納米薄片組裝形成的二維范德華異質(zhì)結(jié)（vdWH）展現(xiàn)出許多不同于單種二維納米薄片的新奇物理性質(zhì)和現(xiàn)象，迅速成為化學(xué)、材料、微電子和光電器件領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)[1-5]?；?/span>vdWH材料的器件具有傳統(tǒng)器件未具備的薄、柔性、透明等特點(diǎn)，在微納光電子器件方面具有的應(yīng)用前景[6-7]。

隨著研究的深入，人們發(fā)現(xiàn)vdWH中不同二維納米薄片之間的相互作用對(duì)其性能具有較大影響[4,7-9]。拉曼光譜法具有無損、等優(yōu)點(diǎn)，是表征異質(zhì)結(jié)層間相互作用的主要方法之一[8-10]。南京工業(yè)大學(xué)李海教授和黃曉教授課題組利用波拉曼光譜儀和原子力顯微鏡（AFM），研究了石墨烯和二硒化鎢（WSe₂）范德華異質(zhì)結(jié)中納米薄片的堆疊次序和角度對(duì)其層間相互作用的影響[11]。研究表明，在Graphene/WSe₂和WSe₂/Graphene異質(zhì)結(jié)的波拉曼光譜中，WSe₂的固有呼吸峰會(huì)隨石墨烯層厚的增加而逐漸紅移。當(dāng)石墨烯增加到的厚度時(shí)，觀察到新的呼吸峰且其隨石墨烯厚度的增加也發(fā)生紅移（圖1）。此外，石墨烯和WSe₂的堆疊次序?qū)Ξ愘|(zhì)結(jié)中的層間相互作用產(chǎn)生較大影響。如圖1(c,d)所示，相對(duì)于WSe₂/Graphene異質(zhì)結(jié)的波呼吸峰而言，Graphene/WSe₂異質(zhì)結(jié)的波呼吸峰發(fā)生了的紅移。他們還進(jìn)一步研究了異質(zhì)結(jié)中納米薄片的堆疊角度對(duì)其層間相互作用的影響（圖2）。結(jié)果表明，層間相互作用隨堆疊角度不同并未發(fā)生的變化，說明WSe₂和石墨烯納米薄片之間的層間相互作用對(duì)堆疊角度并不敏感。

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a-Si(n)/c-Si(p)異質(zhì)結(jié)
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異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)的納米AgBr/TiO2復(fù)合可見光催化劑
p-AlGa1-xN/i-GaN/n-GaN異質(zhì)結(jié)
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SiC_(1-x) Ge_x/SiC異質(zhì)結(jié)

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