NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD

NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD概述：

    針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有加熱的氣體管路、5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、950度樣品臺三個(gè)氣體環(huán)、PC全自動(dòng)控制、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、 250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)，*的安全互鎖。

    目前，NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的這項(xiàng)技術(shù)延伸到5個(gè)4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。

NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD型號：

• 應(yīng)用：綠光LED(GaN, InGaN, AlGaN, ...)
• 臺式系統(tǒng)
• 5個(gè)帶獨(dú)立冷卻槽的起泡器
• 加熱的氣體管路
• 950 °C樣品臺，2"晶圓片
• 3個(gè)氣體環(huán)
• RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布
• 工藝完成后N2自動(dòng)沖洗
• 極限真空5x10-7Torr
• 250 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
• 通過LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
• 菜單驅(qū)動(dòng)，4級密碼訪問控制
• 完整的安全聯(lián)鎖

NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD

• 獨(dú)立系統(tǒng)
• 14"不銹鋼立方體腔體
• 1次在8"樣品臺上處理1個(gè)6"晶圓片或在12"樣品臺上處理5片4"片子
• 加熱的氣體管路
• RF等離子源，自動(dòng)調(diào)諧
• 淋浴頭氣體分布
• 1100°C的旋轉(zhuǎn)樣品臺
• N2沖洗
• 手動(dòng)或自動(dòng)的晶圓片上下載
• 可以兼容到集群配置中