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NLD-3000原子層沉積系統(tǒng) 返回列表頁

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更新時(shí)間：2024-06-17 17:06:13瀏覽次數(shù)：1648次

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產(chǎn)品分類品牌分類

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積 PLD脈沖激光沉積 PA-MOCVD等離子輔助 ALD原子層沉積系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系 Sputter磁控濺射系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā) 熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)鍍膜離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) 光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備

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產(chǎn)品簡介

NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。

詳情介紹

　　原子層沉積技術(shù)

　　NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。

　　NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)特點(diǎn)：NLD-3000是一款獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級(jí)密碼控制的用戶授權(quán)保護(hù)功能。系統(tǒng)為全自動(dòng)的安全互鎖設(shè)計(jì)，并提供了強(qiáng)大的靈活性，可以用于沉積多種薄膜(如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體、光伏、MEMS等。NLD-3000系統(tǒng)提供12"的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，帶有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋，非常方便腔體的訪問和清潔。該系統(tǒng)擁有一個(gè)載氣艙包含多達(dá)7個(gè)50ml的加熱汽缸，用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物，同時(shí)帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

　　選配：NLD-3000系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含自動(dòng)L/UL上下載(用于6"基片)，ICP離子源(用于等離子增強(qiáng)的PEALD)，臭氧發(fā)生器，等等。

　　應(yīng)用：

　　Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3，etc

　　Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..

　　Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS應(yīng)用.

　　Nano laminates納米復(fù)合材料