等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。

基本型等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

基本型等離子清洗機(jī)應(yīng)用：

1. 高分子材料表面修飾。

2. 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。

4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。

6. 清洗生物芯片、微流控芯片。

7. 清洗沉積凝膠的基片。

8. 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

9. 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。

10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的

粘和力。

基本型等離子清洗機(jī)主要特點(diǎn)：

1. 緊湊臺(tái)式設(shè)備、沒(méi)有RF放射、符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。

2. 功率為低、中、高三檔可調(diào)。

3. 基本型：

- 清洗腔：長(zhǎng)6.5英寸，直徑3英寸,腔蓋可拆卸；

- RF線圈zui大施加功率18W；

- 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力；

- 整機(jī)尺寸：8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D；

- 重量：13 lbs；

4. 選配件

- 石英等離子清洗腔；

- 氣體流量混合器；

- 真空泵；

參考客戶：

蘭州大學(xué)  鄭州大學(xué) 上海交通大學(xué) 上海復(fù)旦大學(xué) 合肥工業(yè)大學(xué) 成都電子科技大學(xué) 北京大學(xué)  清華大學(xué)

醫(yī)工所  蘭州化物所 中科院納米所 等等

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